Catálogo de productos
Productos
Componentes de precisión de cuarzo, zafiro y cerámica para semiconductores y fabricación avanzada.
Por Proceso Semiconductor
Por Proceso Semiconductor
Difusión y oxidación
Tubos de proceso, portadores de obleas, bridas
Grabado (húmedo/seco/plasma)
Anillos de enfoque, cámaras, distribuidores
CVD / LPCVD
Campanas, tubos reactores, inyectores de gas
Limpieza húmeda
Tanques de limpieza, cestas portadoras
Epitaxia y recocido
Domos, bandejas susceptoras, revestimientos
Por Tipo de Componente
Por Tipo de Componente
Tubos y revestimientos
Tubos de proceso, revestimientos de horno, tubos reactores
Portadores y soportes
Portadores de obleas, soportes, bastidores
Anillos y bridas
Anillos de enfoque, bridas de sellado, anillos de posición
Placas y ventanas
Ventanas de observación, deflectores, discos
Cámaras y campanas
Cámaras de reacción, campanas, domos
Piezas personalizadas
Fabricación según plano
Catálogo de productos
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13 resultados
Tubo de difusión de cuarzo
Tubos de difusión y oxidación de cuarzo fundido de alta pureza para hornos semiconductores, en configuraciones rectas, con brida o extremo campana para procesos de obleas de 4 a 12 pulgadas.
Barquilla de cuarzo para obleas
Barquillas de obleas de cuarzo fundido mecanizadas con precisión para hornos de difusión horizontales y verticales, con estándar de 25 ranuras y cantidad personalizada para obleas de 4 a 12 pulgadas.
Bridas y accesorios de cuarzo
Bridas, reductores, codos y accesorios de tubo en cuarzo fundido mecanizados con precisión para líneas de gas y ensambles de tubo de horno, compatibles con interfaces estándar de bridas metálicas.
Anillo de enfoque y anillo de grabado de cuarzo
Anillos de enfoque, anillos de grabado y edge rings de cuarzo fundido mecanizados con precisión para cámaras de plasma etching y CVD, con tolerancia ±0.01 mm y acabado Ra 0.1 μm.
Campana y domo de cuarzo
Campanas y domos de cuarzo fundido soplados y formados para reactores CVD, epitaxia y sputtering, hasta 500 mm de diámetro con bridas soldadas herméticas.
Tanque de limpieza de cuarzo
Recipientes soldados de cuarzo fundido para limpieza húmeda con HF, SC-1, SC-2 y piraña en procesos de semiconductores, en configuración simple o cascada y tamaños personalizados.
Inyector de gas y showerhead de cuarzo
Inyectores de gas y showerheads de cuarzo con múltiples orificios para distribución uniforme de gas en sistemas CVD, ALD y hornos de difusión, con matrices de orificios hasta ±0.02 mm de precisión posicional.
Tubo reactor de cuarzo
Tubos reactores de cuarzo fundido de alta pureza para epitaxia, CVD y RTP, disponibles con interior pulido, puertos laterales y bridas rectificadas de precisión para integración en cámara.
Ventana viewport de cuarzo
Ventanas viewport de cuarzo fundido y zafiro con pulido óptico para monitoreo de cámaras de proceso semiconductor, con transmisión UV a IR medio y bridas herméticas metálicas o CF.
Bafle e inserto de cuarzo
Bafles, liners y escudos térmicos de cuarzo fundido mecanizados a medida para tubos de horno, sistemas de difusión y reactores CVD de semiconductores.
Ventana de zafiro y flat óptico
Ventanas de zafiro monocristalino y flats ópticos para cámaras de proceso semiconductor, con transmisión UV a IR medio, Ra < 0.1 nm y extrema resistencia al plasma y químicos.
Portador y barquilla cerámica para obleas
Portadores, barquillas y casetes de obleas en alúmina y carburo de silicio de alta pureza para procesos semiconductores de alta temperatura, con excelente resistencia al desgaste y al choque térmico.
Piezas de precisión personalizadas
Fabricación personalizada según plano de componentes de cuarzo fundido, zafiro y cerámica técnica, desde prototipo hasta producción y para cualquier geometría o especificación.
Soluciones Personalizadas
Dimensiones y especificaciones personalizadas disponibles bajo pedido.
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