Por Proceso Semiconductor
Componentes de cuarzo de alta temperatura para difusión de dopantes, oxidación térmica y recocido en horno, donde se exige pureza y estabilidad dimensional por encima de 1100°C.
Tubos de proceso, portadores de obleas, bridas
7 resultados
Tubos de difusión y oxidación de cuarzo fundido de alta pureza para hornos semiconductores, en configuraciones rectas, con brida o extremo campana para procesos de obleas de 4 a 12 pulgadas.
Barquillas de obleas de cuarzo fundido mecanizadas con precisión para hornos de difusión horizontales y verticales, con estándar de 25 ranuras y cantidad personalizada para obleas de 4 a 12 pulgadas.
Bridas, reductores, codos y accesorios de tubo en cuarzo fundido mecanizados con precisión para líneas de gas y ensambles de tubo de horno, compatibles con interfaces estándar de bridas metálicas.
Inyectores de gas y showerheads de cuarzo con múltiples orificios para distribución uniforme de gas en sistemas CVD, ALD y hornos de difusión, con matrices de orificios hasta ±0.02 mm de precisión posicional.
Bafles, liners y escudos térmicos de cuarzo fundido mecanizados a medida para tubos de horno, sistemas de difusión y reactores CVD de semiconductores.
Portadores, barquillas y casetes de obleas en alúmina y carburo de silicio de alta pureza para procesos semiconductores de alta temperatura, con excelente resistencia al desgaste y al choque térmico.
Fabricación personalizada según plano de componentes de cuarzo fundido, zafiro y cerámica técnica, desde prototipo hasta producción y para cualquier geometría o especificación.
