Por Proceso Semiconductor
Componentes de cuarzo y zafiro con alta estabilidad térmica para procesos de epitaxia y recocido que requieren baja contaminación y resistencia a ciclos térmicos repetidos.
Domos, bandejas susceptoras, revestimientos
10 resultados
Tubos de difusión y oxidación de cuarzo fundido de alta pureza para hornos semiconductores, en configuraciones rectas, con brida o extremo campana para procesos de obleas de 4 a 12 pulgadas.
Barquillas de obleas de cuarzo fundido mecanizadas con precisión para hornos de difusión horizontales y verticales, con estándar de 25 ranuras y cantidad personalizada para obleas de 4 a 12 pulgadas.
Anillos de enfoque, anillos de grabado y edge rings de cuarzo fundido mecanizados con precisión para cámaras de plasma etching y CVD, con tolerancia ±0.01 mm y acabado Ra 0.1 μm.
Campanas y domos de cuarzo fundido soplados y formados para reactores CVD, epitaxia y sputtering, hasta 500 mm de diámetro con bridas soldadas herméticas.
Inyectores de gas y showerheads de cuarzo con múltiples orificios para distribución uniforme de gas en sistemas CVD, ALD y hornos de difusión, con matrices de orificios hasta ±0.02 mm de precisión posicional.
Tubos reactores de cuarzo fundido de alta pureza para epitaxia, CVD y RTP, disponibles con interior pulido, puertos laterales y bridas rectificadas de precisión para integración en cámara.
Ventanas viewport de cuarzo fundido y zafiro con pulido óptico para monitoreo de cámaras de proceso semiconductor, con transmisión UV a IR medio y bridas herméticas metálicas o CF.
Ventanas de zafiro monocristalino y flats ópticos para cámaras de proceso semiconductor, con transmisión UV a IR medio, Ra < 0.1 nm y extrema resistencia al plasma y químicos.
Portadores, barquillas y casetes de obleas en alúmina y carburo de silicio de alta pureza para procesos semiconductores de alta temperatura, con excelente resistencia al desgaste y al choque térmico.
Fabricación personalizada según plano de componentes de cuarzo fundido, zafiro y cerámica técnica, desde prototipo hasta producción y para cualquier geometría o especificación.
