Por Proceso Semiconductor
Componentes de cuarzo, zafiro y cerámica resistentes al plasma para equipos de grabado húmedo, seco y por plasma, donde la uniformidad y la limpieza son críticas.
Anillos de enfoque, cámaras, distribuidores
6 resultados
Anillos de enfoque, anillos de grabado y edge rings de cuarzo fundido mecanizados con precisión para cámaras de plasma etching y CVD, con tolerancia ±0.01 mm y acabado Ra 0.1 μm.
Campanas y domos de cuarzo fundido soplados y formados para reactores CVD, epitaxia y sputtering, hasta 500 mm de diámetro con bridas soldadas herméticas.
Recipientes soldados de cuarzo fundido para limpieza húmeda con HF, SC-1, SC-2 y piraña en procesos de semiconductores, en configuración simple o cascada y tamaños personalizados.
Ventanas viewport de cuarzo fundido y zafiro con pulido óptico para monitoreo de cámaras de proceso semiconductor, con transmisión UV a IR medio y bridas herméticas metálicas o CF.
Ventanas de zafiro monocristalino y flats ópticos para cámaras de proceso semiconductor, con transmisión UV a IR medio, Ra < 0.1 nm y extrema resistencia al plasma y químicos.
Fabricación personalizada según plano de componentes de cuarzo fundido, zafiro y cerámica técnica, desde prototipo hasta producción y para cualquier geometría o especificación.
