Tubo de difusión de cuarzo
Tubos de difusión y oxidación de cuarzo fundido de alta pureza para hornos semiconductores, en configuraciones rectas, con brida o extremo campana para procesos de obleas de 4 a 12 pulgadas.
Por Proceso Semiconductor
Componentes de cuarzo para cámaras CVD, LPCVD y ALD, diseñados para distribución de gas, estabilidad de deposición y ciclos repetibles de limpieza.
Campanas, tubos reactores, inyectores de gas
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Tubos de difusión y oxidación de cuarzo fundido de alta pureza para hornos semiconductores, en configuraciones rectas, con brida o extremo campana para procesos de obleas de 4 a 12 pulgadas.
Barquillas de obleas de cuarzo fundido mecanizadas con precisión para hornos de difusión horizontales y verticales, con estándar de 25 ranuras y cantidad personalizada para obleas de 4 a 12 pulgadas.
Bridas, reductores, codos y accesorios de tubo en cuarzo fundido mecanizados con precisión para líneas de gas y ensambles de tubo de horno, compatibles con interfaces estándar de bridas metálicas.
Anillos de enfoque, anillos de grabado y edge rings de cuarzo fundido mecanizados con precisión para cámaras de plasma etching y CVD, con tolerancia ±0.01 mm y acabado Ra 0.1 μm.
Campanas y domos de cuarzo fundido soplados y formados para reactores CVD, epitaxia y sputtering, hasta 500 mm de diámetro con bridas soldadas herméticas.
Inyectores de gas y showerheads de cuarzo con múltiples orificios para distribución uniforme de gas en sistemas CVD, ALD y hornos de difusión, con matrices de orificios hasta ±0.02 mm de precisión posicional.
Tubos reactores de cuarzo fundido de alta pureza para epitaxia, CVD y RTP, disponibles con interior pulido, puertos laterales y bridas rectificadas de precisión para integración en cámara.
Ventanas viewport de cuarzo fundido y zafiro con pulido óptico para monitoreo de cámaras de proceso semiconductor, con transmisión UV a IR medio y bridas herméticas metálicas o CF.
Bafles, liners y escudos térmicos de cuarzo fundido mecanizados a medida para tubos de horno, sistemas de difusión y reactores CVD de semiconductores.
Ventanas de zafiro monocristalino y flats ópticos para cámaras de proceso semiconductor, con transmisión UV a IR medio, Ra < 0.1 nm y extrema resistencia al plasma y químicos.
Portadores, barquillas y casetes de obleas en alúmina y carburo de silicio de alta pureza para procesos semiconductores de alta temperatura, con excelente resistencia al desgaste y al choque térmico.
Fabricación personalizada según plano de componentes de cuarzo fundido, zafiro y cerámica técnica, desde prototipo hasta producción y para cualquier geometría o especificación.