Cuarzo fundido
Anillo de enfoque y anillo de grabado de cuarzo
Anillos de enfoque, anillos de grabado y edge rings de cuarzo fundido mecanizados con precisión para cámaras de plasma etching y CVD, con tolerancia ±0.01 mm y acabado Ra 0.1 μm.
Dimensiones y especificaciones personalizadas disponibles bajo pedido.
Especificaciones Técnicas
| Parámetro | Valor |
|---|---|
| Material | Fused quartz Grade 1 or Synthetic fused silica Grade 2 |
| OD Tolerance | ±0.02 mm |
| ID Tolerance | ±0.02 mm |
| Flatness (Top Surface) | < 0.02 mm |
| Parallelism | < 0.02 mm |
| Surface Roughness | Ra 0.1–0.4 μm |
Anillo de enfoque y anillo de grabado de cuarzo
Los anillos de cuarzo estabilizan el campo eléctrico, el flujo de gas y la deposición alrededor del borde de la oblea en cámaras de plasma. La precisión dimensional y el acabado superficial afectan la uniformidad del proceso.
Fabricación y calidad
Controlamos OD, ID, planitud, paralelismo, chaflán y rugosidad. Podemos fabricar consumibles compatibles con dimensiones de piezas existentes.
Información para cotizar
Comparta plano, muestra usada, modelo de cámara, dimensiones críticas y requisitos de superficie.
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