반도체 공정별

에피택시 및 어닐링

에피택시 및 어닐링 공정용 고열 안정성 석영, 사파이어 부품으로 저오염과 반복 열사이클 대응이 필요한 환경에 적합합니다.

관련 부품

돔, 서셉터 트레이, 라이너

10 건

용융 석영 튜브 & 라이너

반도체 퍼니스용 고순도 용융 석영 확산 및 산화 튜브입니다. 4~12인치 웨이퍼 공정용 직관, 플랜지형, 벨엔드 구성을 지원합니다.

용융 석영 보트 & 캐리어

수평 및 수직 확산로용 정밀 가공 용융 석영 웨이퍼 보트입니다. 4~12인치 웨이퍼용 25슬롯 표준 및 맞춤 슬롯 수를 지원합니다.

용융 석영 링 & 플랜지

플라즈마 에칭 및 CVD 챔버용 정밀 가공 용융 석영 포커스 링, 에칭 링, 엣지 링입니다. ±0.01 mm 공차와 Ra 0.1 μm 표면 마감을 지원합니다.

용융 석영 챔버 & 벨자

CVD, 에피택시, 스퍼터링 반응기 인클로저용 성형 용융 석영 벨자와 돔입니다. 최대 500 mm 직경과 기밀 용접 플랜지를 지원합니다.

용융 석영 맞춤 부품

CVD, ALD, 확산 퍼니스 시스템에서 균일한 가스 분포를 구현하는 다공 석영 가스 인젝터와 샤워헤드입니다. 홀 배열 위치 정확도 ±0.02 mm까지 지원합니다.

용융 석영 튜브 & 라이너

에피택시, CVD, RTP 시스템용 고순도 용융 석영 반응 튜브입니다. 폴리싱 내경, 사이드 포트, 정밀 연삭 플랜지를 지원합니다.

용융 석영 플레이트 & 윈도우

반도체 공정 챔버 모니터링용 광학 폴리싱 석영 및 사파이어 뷰포트 윈도우입니다. UV부터 중적외선까지 투과하며 금속 또는 CF 플랜지 기밀 구조를 지원합니다.

사파이어 플레이트 & 윈도우

반도체 공정 챔버용 단결정 사파이어 윈도우와 옵티컬 플랫입니다. UV부터 중적외선까지 투과, Ra < 0.1 nm, 우수한 플라즈마 및 내화학성을 제공합니다.

알루미나 (Al₂O₃) 보트 & 캐리어

고온 반도체 공정을 위한 고순도 알루미나 및 실리콘카바이드 웨이퍼 캐리어, 보트, 카세트입니다. 우수한 내마모성과 열충격 저항성을 제공합니다.

용융 석영 맞춤 부품

용융 석영, 사파이어, 기술 세라믹 부품의 도면 기반 맞춤 제작입니다. 시제품부터 양산까지 형상과 사양에 맞춰 지원합니다.