Quarzglas-Fokusring und Ätzring
Präzisionsbearbeitete Quarzglas-Fokusringe, Ätzringe und Edge Rings für Plasmaätz- und CVD-Kammern mit ±0.01 mm Toleranz und Ra 0.1 μm Oberfläche.
Nach Halbleiterprozess
Plasmabeständige Quarz-, Saphir- und Keramikkomponenten für Nass-, Trocken- und Plasmaätzanlagen, bei denen Gleichmäßigkeit und Reinigbarkeit entscheidend sind.
Fokusringe, Kammern, Gasverteiler
6 Ergebnisse
Präzisionsbearbeitete Quarzglas-Fokusringe, Ätzringe und Edge Rings für Plasmaätz- und CVD-Kammern mit ±0.01 mm Toleranz und Ra 0.1 μm Oberfläche.
Geblasene und geformte Bell Jars und Dome aus Quarzglas für CVD-, Epitaxie- und Sputterreaktoren, bis 500 mm Durchmesser mit hermetischen Schweißflanschen.
Geschweißte Nassreinigungsbehälter aus Quarzglas für HF-, SC-1-, SC-2- und Piranha-Prozesse in der Halbleiterfertigung, als Einzel- oder Kaskadentank in kundenspezifischen Größen.
Optisch polierte Quarzglas- und Saphir-Sichtfenster für die Überwachung von Halbleiterprozesskammern, mit UV- bis Mittel-IR-Transmission und hermetischen Metall- oder CF-Flanschen.
Einkristalline Saphirfenster und optische Planplatten für Halbleiterprozesskammern mit UV- bis Mittel-IR-Transmission, Ra < 0.1 nm sowie hoher Plasma- und Chemikalienbeständigkeit.
Zeichnungsbasierte Sonderfertigung von Komponenten aus Quarzglas, Saphir und technischer Keramik, vom Prototyp bis zur Serie und passend zu jeder Geometrie und Spezifikation.