용융 석영 링 & 플랜지
석영 포커스 링 및 에칭 링
플라즈마 에칭 및 CVD 챔버용 정밀 가공 용융 석영 포커스 링, 에칭 링, 엣지 링입니다. ±0.01 mm 공차와 Ra 0.1 μm 표면 마감을 지원합니다.
반도체 공정별
습식, 건식, 플라즈마 식각 장비용 내플라즈마 석영, 사파이어, 세라믹 부품으로 공정 균일도와 유지보수성을 함께 고려했습니다.
포커스 링, 챔버, 샤워헤드
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플라즈마 에칭 및 CVD 챔버용 정밀 가공 용융 석영 포커스 링, 에칭 링, 엣지 링입니다. ±0.01 mm 공차와 Ra 0.1 μm 표면 마감을 지원합니다.
CVD, 에피택시, 스퍼터링 반응기 인클로저용 성형 용융 석영 벨자와 돔입니다. 최대 500 mm 직경과 기밀 용접 플랜지를 지원합니다.
HF, SC-1, SC-2, 피라냐 등 반도체 습식 세정 공정을 위한 용접 용융 석영 탱크입니다. 단일 및 캐스케이드 구성, 맞춤 크기를 지원합니다.
반도체 공정 챔버 모니터링용 광학 폴리싱 석영 및 사파이어 뷰포트 윈도우입니다. UV부터 중적외선까지 투과하며 금속 또는 CF 플랜지 기밀 구조를 지원합니다.
반도체 공정 챔버용 단결정 사파이어 윈도우와 옵티컬 플랫입니다. UV부터 중적외선까지 투과, Ra < 0.1 nm, 우수한 플라즈마 및 내화학성을 제공합니다.