Saphir
Saphirfenster und optische Planplatte
Einkristalline Saphirfenster und optische Planplatten für Halbleiterprozesskammern mit UV- bis Mittel-IR-Transmission, Ra < 0.1 nm sowie hoher Plasma- und Chemikalienbeständigkeit.
Individuelle Abmessungen und Spezifikationen auf Anfrage möglich.
Technische Spezifikationen
| Parameter | Wert |
|---|---|
| Material | Single-crystal Al₂O₃ (Czochralski), > 99.99% |
| Crystal Orientation | C-plane (0001) standard; A, R, M-plane available |
| Surface Roughness | Ra < 0.1 nm (optical polish) |
| Surface Form | λ/4 standard / λ/10 precision |
| Transmission Range | 0.14 – 6.0 μm |
| Max Use Temperature | 1900°C (in air) |
Saphirfenster und optische Planplatte
Saphirfenster bieten hohe Härte, breite optische Transmission und sehr gute Chemikalienbeständigkeit. Sie eignen sich für Plasmakammern, Sensorfenster und Lasersysteme, besonders wenn höhere Verschleißfestigkeit als bei Quarz erforderlich ist.
Fertigung und Qualität
Kristallorientierung, Außenform, Dicke, Ebenheit, Rauheit und Kantenqualität werden kontrolliert. Auf Anfrage sind Transmissions-, XRD- und Oberflächenqualitätsberichte möglich.
Angaben für die Anfrage
Bitte nennen Sie Wellenlängenbereich, Kristallorientierung, Größe, Dicke, Oberflächenqualität und Beschichtungsanforderungen.
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