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Saphirfenster und optische Planplatte

Saphir

Saphirfenster und optische Planplatte

Einkristalline Saphirfenster und optische Planplatten für Halbleiterprozesskammern mit UV- bis Mittel-IR-Transmission, Ra < 0.1 nm sowie hoher Plasma- und Chemikalienbeständigkeit.

Material: Single-crystal Al₂O₃ (Czochralski), > 99.99% Crystal Orientation: C-plane (0001) standard; A, R, M-plane available Surface Roughness: Ra < 0.1 nm (optical polish) Surface Form: λ/4 standard / λ/10 precision

Individuelle Abmessungen und Spezifikationen auf Anfrage möglich.

Technische Spezifikationen

Parameter Wert
Material Single-crystal Al₂O₃ (Czochralski), > 99.99%
Crystal Orientation C-plane (0001) standard; A, R, M-plane available
Surface Roughness Ra < 0.1 nm (optical polish)
Surface Form λ/4 standard / λ/10 precision
Transmission Range 0.14 – 6.0 μm
Max Use Temperature 1900°C (in air)

Saphirfenster und optische Planplatte

Saphirfenster bieten hohe Härte, breite optische Transmission und sehr gute Chemikalienbeständigkeit. Sie eignen sich für Plasmakammern, Sensorfenster und Lasersysteme, besonders wenn höhere Verschleißfestigkeit als bei Quarz erforderlich ist.

Fertigung und Qualität

Kristallorientierung, Außenform, Dicke, Ebenheit, Rauheit und Kantenqualität werden kontrolliert. Auf Anfrage sind Transmissions-, XRD- und Oberflächenqualitätsberichte möglich.

Angaben für die Anfrage

Bitte nennen Sie Wellenlängenbereich, Kristallorientierung, Größe, Dicke, Oberflächenqualität und Beschichtungsanforderungen.

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