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Anwendungen

Optik und Photonik

Präzisionsbauteile aus Quarzglas und Saphir für Lasersysteme, Spektroskopie, VUV-Optik und photonische Forschungsanwendungen.

Quarzglas und Saphir für Optik und Photonik

Quarzglas und Saphir bieten breite Transmissionsbereiche, geringe Eigenfluoreszenz, hohe Laserschadensschwellen und sehr gute Polierbarkeit. Damit sind sie Schlüsselwerkstoffe für Präzisionsoptik vom tiefen UV bis ins mittlere IR.


Optische Eigenschaften

Quarzglas

EigenschaftNatürliches QuarzglasSynthetisches Kieselglas
Transmission200 nm – 3,5 μm150 nm – 3,5 μm
Brechungsindex1,45851,4585
Homogenität< 5 × 10⁻⁶< 1 × 10⁻⁶
Doppelbrechung< 5 nm/cm< 2 nm/cm
UV-Transmission 193 nmca. 80%> 90%

Saphir

EigenschaftWert
Transmission0,14 – 6,0 μm
Brechungsindexnₒ = 1,768, nₑ = 1,760
Doppelbrechunginhärent
HärteKnoop 1800–2000
OberflächenqualitätRa < 0,1 nm

Wichtige Anwendungen

Excimer-Laseroptik

Synthetisches Kieselglas ist Standard für DUV-Optiken bei 193 nm und 248 nm.

IR-Spektroskopiefenster

Saphir schließt die Lücke zwischen Quarzglas und langwelligen IR-Materialien und ist robust gegenüber Feuchte und Chemie.

Optische Faser-Preforms

  • Synthetische Silikatuben für MCVD
  • High-OH- und Low-OH-Varianten je nach Anwendung

VUV-Optik

  • Optimierte Transmission im Bereich 150–200 nm
  • Sehr geringe Oberflächenrauheit
  • Nachweisbare Transmission bei 157 nm

Kundenspezifische Optikfertigung

KomponenteMaterialSpezifikation
Flache FensterQuarzglas / SaphirRa < 0,5 nm, Ebenheit λ/10
PrismenQuarzglasWinkelgenauigkeit ±0,5 arc-min
Stäbe / ZylinderQuarzglas / SaphirAußendurchmesser ±0,02 mm
LinsenQuarzglasFormgenauigkeit λ/4

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