Fertigungskapazitäten
Qualitätsprüfung und Messtechnik
Umfassende interne Messtechnik: CMM-Maßprüfung, AFM/Profilometer-Oberflächenanalyse, Helium-Lecktest, ICP-OES-Reinheitsprüfung und ISO-9001-dokumentierte Qualitätsdaten.
Qualitätsprüfung und Messtechnik
Jede Komponente von Tuguan Semiconductor verlässt das Werk mit dokumentierten, rückverfolgbaren Qualitätsdaten. Unser internes Messlabor deckt Maßprüfung, Oberflächencharakterisierung, Reinheitsprüfung und Funktionstests ab und reduziert die Abhängigkeit von externen Laboren für Routineanforderungen.
Maßprüfung
Koordinatenmessmaschine (CMM)
| Fähigkeit | Spezifikation |
|---|---|
| Volumetrische Genauigkeit | ±0.001 mm (MPEE) |
| Wiederholbarkeit | ±0.0005 mm |
| Messbereich | 600 × 700 × 500 mm |
| Tastkopf | 1 mm Rubinkugel |
| Bericht | PDF + DXF-Vergleichsüberlagerung |
Für Präzisionsteile mit Toleranzen ≤ ±0.05 mm wird standardmäßig ein vollständiger Maßbericht mit Bezug auf die Kundenzeichnung erstellt.
Optische und Laser-Messung
Für große, dünne oder empfindliche Teile, bei denen CMM-Kontakt ein Bruchrisiko darstellen könnte, nutzen wir Lasermikrometer, optische Komparatoren und digitale Höhenmessgeräte.
Oberflächenmesstechnik
| Gerät | Parameter | Auflösung |
|---|---|---|
| Weißlichtinterferometer | Ebenheit, Oberflächenform | 0.1 nm vertikal |
| Kontaktprofilometer | Ra, Rq, Rz | 0.01 nm vertikal |
| AFM | Sub-nm-Rauheit | 0.01 nm RMS |
| Nomarski-DIC-Mikroskop | Scratch-dig, Oberflächenfehler | MIL-PRF-13830 |
| Kalibriertes CMM | Maßtoleranzen | ±0.001 mm |
Leckprüfung
Alle schmelzgeschweißten Quarzbaugruppen für Vakuum- oder Gasführungsanwendungen werden zu 100% mit Helium geprüft.
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Empfindlichkeit | 1×10⁻¹⁰ mbar·L/s |
| Standard-Grenzwert | < 1×10⁻⁹ mbar·L/s |
| High-Integrity-Grenzwert | < 1×10⁻¹⁰ mbar·L/s (auf Anfrage) |
| Methode | Heliumhaube oder Vakuumkammer |
Reinheit und optische Charakterisierung
ICP-OES prüft Na, K, Li, Ca, Mg, Fe, Cr, Ni, Cu, Al, B und weitere Spurenmetalle. XRD verifiziert die Kristallorientierung von Saphir und anderen Einkristallen. Polariskopmessungen erfassen Doppelbrechung in transparentem Quarz und synthetischem Quarzglas. Für optische Fenster und Laseroptiken ist eine UV-VIS-NIR-Transmissionsmessung von 190 nm bis 2500 nm möglich.
Qualitätsmanagement
| Element | Details |
|---|---|
| QMS-Standard | ISO 9001:2015 |
| Kalibrierung | Rückführbar auf NIST/NIM-Standards |
| Abweichungen | Dokumentiertes NCR-System mit Ursachenanalyse und Korrekturmaßnahme |
| Erstmusterprüfung | FAI-Bericht für neue Teilenummern verfügbar |
| Losrückverfolgbarkeit | Chargennummer, Materialzertifikat und Prüfberichte je Lieferung verknüpft |
Standarddokumente umfassen Materialzertifikat, Maßprüfbericht, Rauheitsbericht und Konformitätsbescheinigung. Optional sind Doppelbrechungs-, He-Leck-, XRD-, ICP-OES- und Transmissionstestberichte erhältlich.