Schmelzquarz
Quarzglas-Reinigungstank
Geschweißte Nassreinigungsbehälter aus Quarzglas für HF-, SC-1-, SC-2- und Piranha-Prozesse in der Halbleiterfertigung, als Einzel- oder Kaskadentank in kundenspezifischen Größen.
Individuelle Abmessungen und Spezifikationen auf Anfrage möglich.
Technische Spezifikationen
| Parameter | Wert |
|---|---|
| Material | Fused quartz Grade 1 (≥ 99.99% SiO₂) |
| Wall Thickness | 5–10 mm (size dependent) |
| He Leak Rate (All Welds) | < 1×10⁻⁹ mbar·L/s |
| Max Operating Temperature | 200°C (HF process max: 80°C) |
| Chemical Compatibility | HF, HCl, H₂SO₄, H₂O₂, HNO₃, NH₄OH, SC-1, SC-2, Piranha |
| Weld Joint Strength | ≥ 95% of parent material |
Quarzglas-Reinigungstank
Quarzglas-Reinigungstanks werden in hochreinen Nassprozessen mit HF, SC-1, SC-2 und Piranha eingesetzt. Sie eignen sich für Wet Benches, bei denen geringe Metallkontamination, Chemikalienbeständigkeit und thermische Stabilität entscheidend sind.
Fertigung und Qualität
Quarzplatten werden geschnitten, schmelzgeschweißt, spannungsarm getempert und auf Dichtheit geprüft. Tankgröße, Ablauf, Überlauf und Kaskadenstruktur können angepasst werden.
Angaben für die Anfrage
Bitte nennen Sie Chemikalie, Temperatur, Tankabmessungen, Portpositionen, Handhabung und Reinigungs-/Verpackungsanforderungen.
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