본문으로 건너뛰기

응용 분야

반도체 웨이퍼 제조

확산, CVD, 플라즈마 식각, CMP, 습식 세정 공정을 위한 용융 석영, 사파이어, 세라믹 부품.

반도체 웨이퍼 제조용 용융 석영과 세라믹

반도체 전공정은 고온, 부식성 화학물질, 플라즈마 환경을 견디면서도 웨이퍼에 오염을 주지 않는 부품을 필요로 합니다. 용융 석영, 사파이어, 엔지니어링 세라믹은 이러한 조건을 충족하는 대표 소재입니다.


공정별 부품 가이드

열산화 및 확산

부품소재역할
공정관(내관)합성 용융 실리카 Grade 2반응 챔버, 저금속 오염
공정관(외관)천연 용융 석영 Grade 1단열
웨이퍼 보트용융 석영 Grade 1 또는 2웨이퍼 지지
배플용융 석영 / 불투명 석영가스 흐름 안정화
푸시 로드용융 석영 Grade 1보트 이송
플랜지용융 석영 Grade 1장비 인터페이스

LPCVD

부품소재핵심 요구사항
리액터 튜브합성 용융 실리카 Grade 2총 금속 < 50 ppb
가스 인젝터합성 용융 실리카 Grade 2홀 배열 정밀도 ±0.02 mm
웨이퍼 보트합성 용융 실리카 Grade 2슬롯 피치 ±0.1 mm
뷰포트석영 또는 사파이어인시투 모니터링

플라즈마 식각

부품소재이유
포커스 링 / 엣지 링용융 석영 Grade 1저오염, 안정적 마모
돔 / 라이너용융 석영 Grade 1플라즈마 접촉 부위
뷰포트사파이어석영 대비 우수한 내플라즈마성
챔버 라이너알루미나 99.5%Cl₂ / Br₂ 계열에서 긴 수명

습식 세정

부품소재대응 약액
세정 탱크용융 석영 Grade 1HF, BHF, SC-1, SC-2, Piranha
오버플로 탱크용융 석영 Grade 1DI water
가스 스파저용융 석영 Grade 1O₃, N₂
웨이퍼 캐리어용융 석영 또는 알루미나화학욕 이송

RTP

부품소재핵심 요구사항
공정 돔용융 석영 Grade 2고투과율, 저복굴절
SiC 서셉터반응결합 SiC높은 열충격 저항
파이로미터 윈도우사파이어중적외선 투과
석영 윈도우합성 용융 실리카램프광 전달

Tuguan Semiconductor의 강점

  • 석영 전용 가공 셀 운영
  • ISO Class 7 클린룸 세정 및 검사
  • Grade 2 합성 실리카 재고 대응
  • CMM, 조도, He leak, ICP-OES 검사 지원
  • OEM 호환 교체 부품 공급

프로젝트에 대해 상담하세요