광학 및 포토닉스

광학 및 포토닉스용 용융 석영과 사파이어

용융 석영과 사파이어는 넓은 투과 대역, 낮은 자가 형광, 높은 레이저 손상 임계치, 우수한 연마성으로 인해 UV부터 중적외선까지의 정밀 광학에 널리 사용됩니다.

---

소재 특성

용융 석영

특성	천연 용융 석영	합성 용융 실리카
투과 범위	200 nm – 3.5 μm	150 nm – 3.5 μm
굴절률(589 nm)	1.4585	1.4585
균질도	< 5 × 10⁻⁶	< 1 × 10⁻⁶
복굴절	< 5 nm/cm	< 2 nm/cm
UV 투과(193 nm)	약 80%	> 90%

사파이어

특성	값
투과 범위	0.14 – 6.0 μm
굴절률(589 nm)	nₒ = 1.768, nₑ = 1.760
복굴절	고유
경도	Knoop 1800–2000
표면 조도	Ra < 0.1 nm

---

주요 응용

엑시머 레이저 광학

합성 용융 실리카는 193 nm, 248 nm 대역 DUV 광학의 대표 소재입니다.

적외선 분광 윈도우

사파이어는 석영보다 장파장 투과가 우수하여 FTIR 셀, 중적외선 레이저 윈도우 등에 적합합니다.

광섬유 프리폼

• MCVD용 합성 실리카 튜브
• 고 OH / 저 OH 등급별 프리폼 소재

VUV 광학

• 150–200 nm 영역 최적화
• 초저조도 표면 가공
• 157 nm 투과 확인 대응

---

커스텀 광학 가공

부품	소재	사양 예시
평판 윈도우	석영 / 사파이어	Ra < 0.5 nm, 평탄도 λ/10
프리즘	석영	각도 정밀도 ±0.5 arc-min
로드 / 실린더	석영 / 사파이어	외경 ±0.02 mm
렌즈	석영	면형 λ/4