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Quarzglas-Diffusionsrohr

Schmelzquarz

Quarzglas-Diffusionsrohr

Hochreine Quarzglas-Diffusions- und Oxidationsrohre für Halbleiteröfen, als gerades Rohr, mit Flansch oder Bell-End für 4- bis 12-Zoll-Waferprozesse.

Material: Fused quartz GE-124 equivalent / Synthetic silica HPFS equivalent Purity: ≥ 99.99% SiO₂ (Grade 1) / ≥ 99.9999% SiO₂ (Grade 2) OD Tolerance: ±0.5 mm Wall Thickness Tolerance: ±0.3 mm

Individuelle Abmessungen und Spezifikationen auf Anfrage möglich.

Technische Spezifikationen

Parameter Wert
Material Fused quartz GE-124 equivalent / Synthetic silica HPFS equivalent
Purity ≥ 99.99% SiO₂ (Grade 1) / ≥ 99.9999% SiO₂ (Grade 2)
OD Tolerance ±0.5 mm
Wall Thickness Tolerance ±0.3 mm
Length Tolerance ±1 mm
Bow (per 1000 mm) < 1 mm
Surface Finish (Inner) Ra ≤ 1.6 μm
He Leak Rate (Flanged) < 1×10⁻⁹ mbar·L/s

Quarzglas-Diffusionsrohr

Diffusionsrohre aus Quarzglas sind Kernkomponenten in Diffusion, Oxidation, Tempern und LPCVD. Hohe Reinheit, geringe Wärmeausdehnung und Maßstabilität machen sie geeignet für wiederholte Hochtemperaturzyklen.

Fertigung und Qualität

Außendurchmesser, Wandstärke, Länge, Biegung und Innenoberfläche werden kontrolliert. Flanschschweißen, Bell-End-Formung und Leckprüfung sind je nach Anwendung möglich.

Angaben für die Anfrage

Bitte nennen Sie Wafergröße, Ofenmodell, Rohrabmessungen, Endform, Temperatur und Reinheitsanforderung.

Bereit zur Bestellung oder individuelle Größe benötigt?

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