Schmelzquarz
Quarzglas-Diffusionsrohr
Hochreine Quarzglas-Diffusions- und Oxidationsrohre für Halbleiteröfen, als gerades Rohr, mit Flansch oder Bell-End für 4- bis 12-Zoll-Waferprozesse.
Individuelle Abmessungen und Spezifikationen auf Anfrage möglich.
Technische Spezifikationen
| Parameter | Wert |
|---|---|
| Material | Fused quartz GE-124 equivalent / Synthetic silica HPFS equivalent |
| Purity | ≥ 99.99% SiO₂ (Grade 1) / ≥ 99.9999% SiO₂ (Grade 2) |
| OD Tolerance | ±0.5 mm |
| Wall Thickness Tolerance | ±0.3 mm |
| Length Tolerance | ±1 mm |
| Bow (per 1000 mm) | < 1 mm |
| Surface Finish (Inner) | Ra ≤ 1.6 μm |
| He Leak Rate (Flanged) | < 1×10⁻⁹ mbar·L/s |
Quarzglas-Diffusionsrohr
Diffusionsrohre aus Quarzglas sind Kernkomponenten in Diffusion, Oxidation, Tempern und LPCVD. Hohe Reinheit, geringe Wärmeausdehnung und Maßstabilität machen sie geeignet für wiederholte Hochtemperaturzyklen.
Fertigung und Qualität
Außendurchmesser, Wandstärke, Länge, Biegung und Innenoberfläche werden kontrolliert. Flanschschweißen, Bell-End-Formung und Leckprüfung sind je nach Anwendung möglich.
Angaben für die Anfrage
Bitte nennen Sie Wafergröße, Ofenmodell, Rohrabmessungen, Endform, Temperatur und Reinheitsanforderung.
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