溶融石英
石英拡散チューブ
半導体炉向け高純度溶融石英の拡散・酸化チューブ。4〜12インチウェーハ工程向けにストレート、フランジ付き、ベルエンド構成へ対応。
Material: Fused quartz GE-124 equivalent / Synthetic silica HPFS equivalent Purity: ≥ 99.99% SiO₂ (Grade 1) / ≥ 99.9999% SiO₂ (Grade 2) OD Tolerance: ±0.5 mm Wall Thickness Tolerance: ±0.3 mm
ご要望に応じてカスタム寸法・仕様に対応します。
技術仕様
| 項目 | 値 |
|---|---|
| Material | Fused quartz GE-124 equivalent / Synthetic silica HPFS equivalent |
| Purity | ≥ 99.99% SiO₂ (Grade 1) / ≥ 99.9999% SiO₂ (Grade 2) |
| OD Tolerance | ±0.5 mm |
| Wall Thickness Tolerance | ±0.3 mm |
| Length Tolerance | ±1 mm |
| Bow (per 1000 mm) | < 1 mm |
| Surface Finish (Inner) | Ra ≤ 1.6 μm |
| He Leak Rate (Flanged) | < 1×10⁻⁹ mbar·L/s |
石英拡散チューブ
石英拡散チューブは、拡散、酸化、アニール、LPCVD工程で使用される炉心部品です。高純度、低熱膨張、良好な寸法安定性により、高温の繰り返しプロセスに適しています。
製造と品質
外径、肉厚、長さ、反り、内面仕上げを管理し、必要に応じてフランジ溶接やベルエンド加工を行います。真空・ガス用途ではリーク試験も対応可能です。
お問い合わせ時の情報
ウェーハサイズ、炉型式、チューブ寸法、端部形状、温度、純度要求をお知らせください。
