Aluminiumoxid (Al₂O₃)
Keramischer Wafercarrier und Boat
Hochreine Aluminiumoxid- und Siliziumkarbid-Wafercarrier, Boats und Kassetten für Hochtemperaturprozesse in der Halbleiterfertigung mit hoher Verschleiß- und Temperaturwechselbeständigkeit.
Individuelle Abmessungen und Spezifikationen auf Anfrage möglich.
Technische Spezifikationen
| Parameter | Wert |
|---|---|
| Materials Available | Al₂O₃ 99.5% / Al₂O₃ 99.9% / SiC (reaction-bonded) |
| Max Use Temperature | 1600°C (Al₂O₃) / 1380°C (RB-SiC) |
| Slot Pitch Tolerance | ±0.1 mm |
| Slot Width Tolerance | ±0.05 mm |
| Flatness (Carrier Plate) | < 0.1 mm |
| Thermal Shock Resistance | ΔT > 200°C (Al₂O₃) / ΔT > 400°C (SiC) |
Keramischer Wafercarrier und Boat
Aluminiumoxid- und SiC-Carrier halten Wafer in Diffusions-, Oxidations- und RTP-Prozessen stabil. Sie eignen sich für Linien, in denen höhere Steifigkeit, Verschleißfestigkeit und Temperaturwechselbeständigkeit als bei Quarz benötigt werden.
Fertigung und Qualität
Slotabstand, Auflagewinkel, Ebenheit und Oberflächenzustand werden nach Zeichnung kontrolliert. Je nach Anwendung wählen wir Alumina-Reinheit, SiC-Qualität, Reinigung und Verpackung.
Angaben für die Anfrage
Bitte nennen Sie Wafergröße, Slotanzahl, Pitch, Einsatztemperatur, Anlagen-Schnittstelle und erwartete Stückzahl.
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