按半导体工序
适用于 CVD、LPCVD 和 ALD 腔体的石英部件,重点满足气体分布、沉积稳定性和重复清洗循环要求。
钟罩、反应管、气体喷射器
12 个结果
用于半导体扩散炉的高纯熔融石英扩散氧化管——提供直管、法兰管和铃口管配置,适用于4英寸至12英寸晶圆工艺。
精密加工熔融石英晶舟,适用于卧式和立式扩散炉——标准25槽及定制槽数,兼容4英寸至12英寸晶圆。
精密加工的熔融石英法兰、变径接头、弯头和管接头,适用于半导体气路和炉管组件——兼容标准金属法兰接口。
精密加工熔融石英聚焦环、刻蚀环和边缘环,用于等离子刻蚀和CVD腔体——公差 ±0.02 mm,表面粗糙度 Ra 0.1 μm。
吹制成型熔融石英钟罩和穹顶,用于CVD、外延和溅射反应腔体封罩——直径达500 mm,配气密焊接法兰。
精密多孔石英气体注入器和喷淋头,用于CVD、ALD和扩散炉系统中的均匀气体分布——孔阵列位置精度达±0.02 mm。
用于外延、CVD和RTP系统的高纯熔融石英反应管——可提供抛光内孔、侧向开口和精密磨削法兰,实现工艺腔室集成。
用于半导体工艺腔室监测的光学抛光熔融石英和蓝宝石观察窗——紫外至中红外透射,密封金属或CF法兰。
定制加工的熔融石英挡板、内衬和隔热屏,适用于半导体炉管、扩散系统和CVD反应器。
用于半导体工艺腔室的单晶蓝宝石窗口和光学平晶——紫外至中红外透射,Ra < 0.1 nm,极端等离子体和化学耐受性。
用于高温半导体工艺的高纯氧化铝和碳化硅晶圆载具、晶舟和卡匣——具有优异的耐磨性和抗热震能力。
基于图纸的熔融石英、蓝宝石和工程陶瓷定制加工——从原型到量产,任意几何形状,任意规格。