Quarzglas-Diffusionsrohr
Hochreine Quarzglas-Diffusions- und Oxidationsrohre für Halbleiteröfen, als gerades Rohr, mit Flansch oder Bell-End für 4- bis 12-Zoll-Waferprozesse.
Nach Halbleiterprozess
Quarzkomponenten für CVD-, LPCVD- und ALD-Anlagen, ausgelegt auf Gasverteilung, stabile Abscheidung und reproduzierbare Reinigungszyklen.
Glasglocken, Reaktorrohre, Gasinjektoren
12 Ergebnisse
Hochreine Quarzglas-Diffusions- und Oxidationsrohre für Halbleiteröfen, als gerades Rohr, mit Flansch oder Bell-End für 4- bis 12-Zoll-Waferprozesse.
Präzisionsbearbeitete Waferboats aus Quarzglas für horizontale und vertikale Diffusionsöfen, mit 25-Slot-Standard und kundenspezifischer Slotanzahl für 4- bis 12-Zoll-Wafer.
Präzisionsbearbeitete Quarzglasflansche, Reduzierstücke, Bögen und Rohrfittings für Halbleiter-Gasleitungen und Ofenrohrbaugruppen, kompatibel mit Standard-Metallflansch-Schnittstellen.
Präzisionsbearbeitete Quarzglas-Fokusringe, Ätzringe und Edge Rings für Plasmaätz- und CVD-Kammern mit ±0.01 mm Toleranz und Ra 0.1 μm Oberfläche.
Geblasene und geformte Bell Jars und Dome aus Quarzglas für CVD-, Epitaxie- und Sputterreaktoren, bis 500 mm Durchmesser mit hermetischen Schweißflanschen.
Präzise Mehrloch-Gasinjektoren und Showerheads aus Quarzglas für gleichmäßige Gasverteilung in CVD-, ALD- und Diffusionsofensystemen, mit Lochpositionsgenauigkeit bis ±0.02 mm.
Hochreine Quarzglas-Reaktorrohre für Epitaxie-, CVD- und RTP-Systeme, verfügbar mit polierter Innenbohrung, Seitenports und präzisionsgeschliffenen Flanschen.
Optisch polierte Quarzglas- und Saphir-Sichtfenster für die Überwachung von Halbleiterprozesskammern, mit UV- bis Mittel-IR-Transmission und hermetischen Metall- oder CF-Flanschen.
Kundenspezifisch bearbeitete Quarzglas-Baffles, Liner und Wärmeschilde für Halbleiter-Ofenrohre, Diffusionssysteme und CVD-Reaktoren.
Einkristalline Saphirfenster und optische Planplatten für Halbleiterprozesskammern mit UV- bis Mittel-IR-Transmission, Ra < 0.1 nm sowie hoher Plasma- und Chemikalienbeständigkeit.
Hochreine Aluminiumoxid- und Siliziumkarbid-Wafercarrier, Boats und Kassetten für Hochtemperaturprozesse in der Halbleiterfertigung mit hoher Verschleiß- und Temperaturwechselbeständigkeit.
Zeichnungsbasierte Sonderfertigung von Komponenten aus Quarzglas, Saphir und technischer Keramik, vom Prototyp bis zur Serie und passend zu jeder Geometrie und Spezifikation.