熔融石英晶圓舟

  • Clear fused quartz wafer boat with multiple slots for semiconductor wafers.
  • Long, clear fused quartz rods with spiral grooves, likely components of a wafer boat.
  • Compact clear fused quartz boat or carrier design, angled view.
  • Opaque fused quartz wafer carrier frame with straight support rods.
  • Multiple individual clear fused quartz wafer support stands or components.

    • 熔融石英晶圓舟

    The Quartz Cleaning Boat 是一個高純度、耐腐蝕的載體，專為半導體、太陽能光電及精密電子產業設計。用於在濕式/乾式清洗、酸蝕或高溫加工過程中固定晶片或元件。

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    產品概覽

    我們的高純度、耐腐蝕的熔融石英舟與載物架為半導體、光電與精密電子產業量身定制。適用於晶圓清洗（RCA、SC1/SC2）、酸蝕、高溫退火/擴散以及 CVD/PVD 過程，這些元件提供超乾淨、無污染的表面與出色的熱穩定性，符合 SEMI F20/F47 標準。

    技術規格

    • 參數： 詳細資料
    • 材料： 熔融石英 (SiO₂ ≥99.99%)
    • 尺寸： 可自訂 (標準：長度 200–500 mm、寬度 50–150 mm、高度 20–50 mm)
    • 最高溫度: 1,200°C (連續使用) / 1,450°C (短期使用)
    • 表面處理： 酸洗拋光，Ra ≤0.8 μm
    • 純度： 低金屬雜質（Na、K、Fe 等 <1 ppm）
    • 熱穩定性: 熱膨脹係數 (CTE): 0.55 ×10⁻⁶/°C (20–1,000°C)

    主要特徵

    • 高化學耐性: 耐HF、HCl、HNO₃等其他腐蝕性化學品
    • 低熱膨脹： 在快速溫度變化下最小化變形
    • 非污染性: 超潔淨表面防止顆粒附著
    • 自訂設計: 槽間距、深度與比色皿的幾何形狀量身定制以符合客戶需求

    應用

    • 晶圓在濕式工作台上的清洗（RCA、SC1/SC2）
    • 酸浴工序（例如 BOE 蝕刻）
    • 高溫退火/擴散步驟
    • CVD/PVD腔室元件處理

    品質保證

    • 符合性: 符合 SEMI F20/F47 標準
    • 測試:
      用於雜質分析的ICP-MS
      透過 AFM 的表面粗糙度測量
      熱衝擊測試 (1,000°C ⇄ 25°C, 10 次)

    包裝與儲存

    • 個別包裝於防靜電、ESD安全的容器中
    • 請存放在乾燥、無塵的環境中（10–30°C）

    注意事項

    • 避免機械衝擊或突然的溫度變化 (>10°C/min)
    • 首次使用前請以去離子水或乙醇清潔

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