請致電：+86 0518-87284110
12英寸熔融石英晶圓 & 光學基板
我們的高純度12-inch熔融石英晶圓與光學基板，為半導體製造、光學系統與 MEMS 裝置的嚴苛應用而設計。提供卓越的 UV 可透性、低熱膨脹和優越的表面品質，這些晶圓確保在關鍵處理、測試與光刻環境中實現精密、無污染的性能。
材料
- 基材：高純度合成熔融石英（SiO₂ ≥99.99%）
- 光學級: 低羥基（OH）含量的 UV 等級透明度
尺寸
- 直徑 :100 mm ±0.05 mm
- 厚度：3 mm ±0.05 mm
- 邊緣處理：細研磨的倒角 ≤0.3 mm
物理性質
- 密度: 2.2 g/cm³
- 硬度：Mohs 5.5-6.5
- 熱膨脹: 0.55 × 10⁻⁶/°C (20-300°C)
- 軟化點: 1683°C
光學性質
- 透射範圍：190 nm (UV) 至 2500 nm (IR)
- 折射率: 1.458 @ 587.6 nm (nd)
- Scratch-Dig: 60/40 (MIL-PRF-13830B)
- 表面平坦度: λ/4 @ 632.8 nm
表面規格
- Ra 粗糙度: ≤5 Å (拋光表面)
- 平行度 : ≤1 arcmin
化學耐性
- 耐酸（HF除外）、水和有機溶劑
應用
- 光學窗口，雷射系統，UV 光刻
- 半導體加工，高溫視窗
認證與符合性
- 符合 RoHS
- 可按需提供自訂量測報告
封裝
- 單獨包裝於防靜電泡棉中
- 裝於剛性、耐壓容器中運送
備註
避免機械衝擊或直接接觸鋒利物體
使用 IPA 或丙酮，並以無塵布巾清潔
如需完整技術資料或客製化需求，請聯繫 email
繁體中文 
English 
Español 
Français 
Deutsch 
Русский 
العربية 
Português do Brasil 
日本語 
한국어