半導體用陶瓷元件

半導體用陶瓷元件

精密定制陶瓷元件,採用高純度氧化鋁(Al2O3)、氧化鋯(ZrO2)與氮化矽(Si3N4)加工而成,為嚴苛的半導體、高溫與真空應用而設計。提供卓越的熱、電與機械性能,我們的定制部件非常適用於等離子蝕刻與真空腔等關鍵環境。


Basic Dimensions

  • 依據圖樣(自訂尺寸與幾何形狀)

材料特性

  • 基材: Al₂O₃ (氧化鋁陶瓷) / 可選:ZrO₂, Si₃N₄
  • 密度 ≥3.90 g/cm³
  • 彎曲強度: ≥350 MPa
  • 熱傳導率: 24-30 W/(m·K)
  • 介電強度: ≥15 kV/mm

公差與表面品質

  • 同心度: ≤0.05 mm(外徑與內徑)
  • 平行性 ≤0.03 mm (上表面/下表面)
  • 表面粗糙度: Ra ≤0.4 μm

關鍵性能測試

  • 尺寸檢查: 根據 ISO 286-2
  • 洩漏率測試 ≤1×10⁻⁹ mbar·L/s (氦氣質量分析)
  • 熱衝擊耐性: ΔT ≥300°C (5 次循環,無裂縫)

應用

  • 半導體加工: 真空腔室,等離子蝕刻元件
  • 高溫環境: ≤1600°C (材料依賴性)

包裝與搬運

  • 潔淨室包裝 100級以上
  • 防靜電 ESD安全容器

符合性聲明
符合 SEMI F47-0706(半導體設備用陶瓷元件)

免責聲明
可依需求提供客製化。以「□」標記的關鍵參數需經過明確確認。

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