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4 inch Quartz Wafers & Optical Substrates
Our high-purity Fused Quartz wafers and optical substrates are engineered for demanding applications in semiconductor manufacturing, optical systems, and MEMS devices. Offering exceptional UV transparency, low thermal expansion, and superior surface quality, these wafers ensure precise, contamination-free performance in critical processing, testing, and lithography environments.
Material
- Material de base: quartzo fundido sintético de alta pureza (SiO₂ ≥99.99%)
- Qualidade óptica: transparência UV com baixo teor de hidroxila (OH)
Dimensões
- Diâmetro :100 mm ±0.05 mm
- Espessura: 3 mm ±0.05 mm
- Tratamento de borda: chanframento de acabamento fino ≤0.3 mm
Propriedades físicas
- Densidade: 2.2 g/cm³
- Dureza: Mohs 5.5-6.5
- Expansão térmica: 0.55 × 10⁻⁶/°C (20-300°C)
- Ponto de amolecimento: 1683°C
Propriedades ópticas
- Faixa de transmissão: 190 nm (UV) a 2500 nm (IR)
- Índice de refração: 1.458 @ 587.6 nm (nd)
- Scratch-Dig: 60/40 (MIL-PRF-13830B)
- Planicidade da superfície: λ/4 @ 632.8 nm
Especificações da superfície
- Rugosidade Ra: ≤5 Å (superfícies polidas)
- Paralelismo : ≤1 arcmin
Resistência química
- Resistente a ácidos (exceto HF), água e solventes orgânicos
Aplicações
- Janelas ópticas, sistemas a laser, fotolitografia UV
- Processamento de semicondutores, janelas de visualização de alta temperatura
Certificações e Conformidade
- em conformidade com RoHS
- Relatórios de metrologia personalizados disponíveis mediante solicitação
Embalagem
- Embalado individualmente em espuma antiestática
- Enviado em recipientes rígidos e à prova de esmagamento
Observações
Evite choques mecânicos ou contato direto com objetos cortantes
Limpar com IPA ou acetona usando lenços sem fiapos
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