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Tubos de forno de quartzo fundido para CVD de semicondutores
nossos tubos de forno de quartzo fundido de alta pureza são projetados sob medida para processos exigentes de wafers semicondutores, recozimento em alta temperatura, CVD e fornos de difusão. Esses tubos robustos suportam até 1200°C (pico 1450°C), são resistentes a ácidos e gases corrosivos e oferecem baixa expansão térmica para estabilidade dimensional em vácuo ou ambientes de baixa pressão; modificações personalizadas estão disponíveis.
Especificações do material
- Material principal: quartzo fundido (SiO₂ ≥ 99.9%)
- Densidade 2.2 g/cm³
- Estabilidade térmica Resiste ao choque térmico até 1200°C (uso contínuo)
Dimensões
- Diâmetro externo: 415 mm / ±1.5 mm
- Diâmetro interno: 405 mm / ±1.0 mm
- Espessura da parede: 5 mm / ±0.5 mm
- Comprimento: 2300 mm / ±5 mm
Parâmetros técnicos
- Temperatura máxima de funcionamento: 1200°C (pico de curto prazo: 1450°C)
- Resistência à pressão: Resiste a 1 atm (ambientes de vácuo ou de baixa pressão)
- Coeficiente de expansão térmica: 0.55 × 10⁻⁶ /°C (20–1000°C)
- Acabamento da superfície: Liso, não poroso, lavado com ácido
Principais Características
- Pureza ultra-alta para processos sensíveis à contaminação
- Excelente resistência química a ácidos, halogênios e à maioria dos gases corrosivos
- Baixa expansão térmica garante a estabilidade dimensional
Aplicações
- Processamento de wafers semicondutores
- Recocimento a alta temperatura, fornos CVD ou de difusão
- Pesquisas laboratoriais e indústrias ópticas
Embalagem e manuseio
- Embalagem: Caixa de madeira acolchoada com espuma
- Armazenamento: Mantenha seco, evite a luz direta do sol e guarde na posição horizontal
Observações
- Evite impactos mecânicos ou mudanças rápidas de temperatura (>200°C/min)
- Modificações personalizadas (por exemplo, bridas, revestimentos) disponíveis mediante solicitação.
Para suporte técnico detalhado ou pedidos em grande volume, por favor entre em contato com nossa equipe de engenharia.