12인치 용융 석영 웨이퍼 & 광학 기판

12인치 용융 석영 웨이퍼 & 광학 기판

고순도 12-inch 용융석영 웨이퍼 및 광학 기판은 반도체 제조, 광학 시스템 및 MEMS 기기의 까다로운 응용 분야를 위해 설계되었습니다. 우수한 UV 투과성, 낮은 열팽창 및 우수한 표면 품질을 제공하는 이 웨이퍼는 중요한 가공, 테스트 및 포토리소그래피 환경에서 정밀하고 오염 없이 성능을 보장합니다.

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재료

• 기본 재료: 고순도 합성 용융석영 (SiO₂ ≥99.99%)
• 광학 등급: OH(하이드록실) 함량이 낮은 UV 등급 투과성

치수

• 직경 :100 mm ±0.05 mm
• 두께: 3 mm ±0.05 mm
• 모서리 가공: 연마된 미세 모서리 ≤0.3 mm

 물리적 성질

• 밀도: 2.2 g/cm³
• 경도: Mohs 5.5-6.5
• 열팽창: 0.55 × 10⁻⁶/°C (20-300°C)
• 연화점: 1683°C

광학적 특성

• 전송 범위: 190 nm (UV)에서 2500 nm (IR)까지
• 굴절률: 1.458 @ 587.6 nm (nd)
• Scratch-Dig: 60/40 (MIL-PRF-13830B)
• 표면 평탄도: λ/4 @ 632.8 nm

표면 규격

• Ra 거칠기: ≤5 Å (연마 표면)
• 평행도 : ≤1 arcmin

화학적 내성

• HF를 제외한 산, 물 및 유기 용매에 대해 내성이 있다

용도

• 광학 창, 레이저 시스템, 자외선 노광
• 반도체 가공, 고온 뷰포트

인증 및 적합성

• RoHS 준수
• 맞춤형 계측 보고서는 요청 시 이용 가능합니다

패키징

• 정전기 방지 폼으로 개별 포장되어 있습니다
• 강하고 파손 방지 용기에 포장되어 발송

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