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Fused Quartz Vacuum Chucks & Handling Plates

Tuguan
8월 12, 2025

Close-up of a clear Fused Quartz plate with complex internal fluidic channels and two circular ports, held by a gloved hand

Clear Fused Quartz rectangular frame or support component with a large central cutout and multiple perimeter holes.

Top-down view of a clear, square Fused Quartz plate with an intricate concentric circular and radial etched pattern, resembling a fan guard

Clear, rectangular Fused Quartz plate with a precise grid of small square openings and circular standoffs, held by a gloved hand.

Fused Quartz Vacuum Chucks & Handling Plates

Our precision custom Fused Quartz vacuum chucks, plates, and handling fixtures are engineered for demanding applications in semiconductor wafer processing, etching, and other high-tech industries. Crafted from high-purity Fused Quartz, these components ensure contamination-free, scratch-free handling, offering exceptional thermal stability and chemical inertness for reliable performance in vacuum and high-temperature environments

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Basic Dimensions

Outer Diameter (OD): 300.0 mm ±0.1
Inner Diameter (ID): 210.0 mm ±0.1
Height (H): 6.35 mm ±0.05

재료 특성

베이스 재료: Al₂O₃ (알루미나 세라믹) / 선택 사항: ZrO₂, Si₃N₄
밀도 ≥3.90 g/cm³
굽힘 강도: ≥350 MPa
열전도율: 24-30 W/(m·K)
유전강도: ≥15 kV/mm

공차 및 표면 품질

동심도: ≤0.05 mm (외경과 내경)
병렬성 ≤0.03 mm (상단 표면/하단 표면)
표면 거칠기: Ra ≤0.4 μm

주요 성능 테스트

치수 검사: ISO 286-2에 따라
누설률 테스트 ≤1×10⁻⁹ mbar·L/s (헬륨 질량분석)
열충격 저항성: ΔT ≥300°C (5주기, 균열 없음)

용도

반도체 공정: 진공 챔버, 플라즈마 식각 부품
고온 환경: ≤1600°C (재료 의존성)

포장 및 취급

클린룸 포장 클래스 100 이상
정전기 방지 ESD 안전 컨테이너

적합성 선언
SEMI F47-0706에 부합 (반도체 장비용 세라믹 부품)

면책 조항
요청에 따라 맞춤설정이 가능합니다. “□”로 표시된 중요한 매개변수는 명시적 확인이 필요합니다.

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