전화 주세요: +86 0518-87284110
용융석영 포커싱 및 플라즈마 링 에칭 및 CVD용
맞춤형 용융석영 포커싱 링(일명 엣지 링, 구속 링, 플라즈마 링, 그림자 링)은 플라즈마 식각, CVD 및 기타 진공 공정을 위해 설계되었습니다. 고순도 용융석영으로 만들어 도면에 따라 정밀 가공되었습니다. 이 링들은 우수한 플라즈마 내성, 열 안정성 및 엄격한 치수 제어를 제공하여 공정의 균일성을 유지하고 중요한 챔버 내부의 오염을 최소화하는 데 도움을 줍니다.
견적에 필요한 정보
- 도면(PDF/STEP) 또는 주요 치수: 외경, 내경, 두께, 계단 높이와 너비.
- 웨이퍼의 크기와 방향(예: 200/300 mm; 노치 위치), 링-웨이퍼 간 간격 목표.
- 특징: 계단/턱, 포켓, 클램프 또는 그림자 기하학, 통풍구, 볼트 구멍, 카운터싱크 구멍, 정렬용 노치
- 모서리 디테일 및 표면 마감(모서리 절단/베벨; 연삭된 표면 또는 연마된 표면)
- 작동 조건: 플라즈마 화학, 전력, 온도, 예상 수명/침식 허용치
- 중요 공차: 평탄도, 평행도, 동심도, 런아웃
- 수량(프로토타입 또는 배치), 요구되는 검사 보고서, 포장 수준
주요 사양
- 재질: 고순도 용융석영(SiO₂); 재료 인증서는 요청 시 이용 가능
- 형상: 평면 링, 계단식/리브 링, 다부 구성 세그먼트, 구속/그림자 링—도면별로 완전 맞춤 제작.
- 치수: 도면에 따라 주문 제작; 열적 안정성을 위한 단면 두께의 균일성
- 기능 특징 섀도우 입술, 클램프 면, 웨이퍼 설치 단계, 압력 평형을 위한 흐름 및 통풍 구멍
- 모서리와 표면 불꽃으로 연마된 가장자리; 가공되었거나 연마된 기능 표면; 입자 생성을 줄이기 위한 매끄러운 반경
- 정렬 및 장착: 노치/키, 싱크 구멍, 데이텀 참조, 레이저 부품 ID/유량 방향 요청 시
- 청결도: 초음파/DI 세척; Class-100 호환 포장
재료 특성(대표값)
- 저열팽창 및 높은 열충격 저항
- 대부분의 공정 가스에 대한 탁월한 화학적 비활성; HF가 용융석영을 공격한다는 점에 유의하십시오
- 전기적으로 절연, 낮은 가스 방출; 광학적으로 깨끗한 표면
가공 및 설계 메모
- 링-웨이퍼 간격과 스텝 높이를 일정하게 유지하여 균일한 플라즈마 분포를 보장합니다。
- 전이부에 충분한 내부 반지름을 추가하여 응력과 입자 트랩을 줄입니다
- 진공을 보는 벤트/카운터보어 관통 구멍으로 가상 누출 방지
- 프로세스 청결도와 클램프/섀도우 요구사항에 따라 표면 마감을 선택
- 크기/기하학적 형상에 기반하여 평탄도, 평행도, 동심도 및 런아웃에 대한 실현 가능한 공차를 제시할 수 있습니다
검사 및 시험
- 치수 확인(CMM/광학): OD/ID/두께, 계단의 높이/너비, 간극 특징
- 데이터 표면에 대한 평탄도/평행성 및 런아웃 검사
- 육안 검사: 칩, 마이크로크랙, 인클루전 및 오염에 대한 100% 검사.
- 선택사항: 이중굴절/응력 평가; 표면 마감 확인; 청정도 보고서
용도
ICP/RIE/DRIE 플라즈마 에칭, PECVD/CVD, 에지 링과 포커싱 링, 섀도 링으로 구성됩니다. 150–300 mm 웨이퍼 플랫폼과 맞춤 기판용 구속 구성 요소.
포장 및 보관
정전기 방지, 진공 밀봉 포장으로 단단한 보호를 제공합니다; 가장자리 접촉을 방지하는 링 구분대를 갖추고 있습니다. 건조 상태를 유지하고 10–30 °C에서 보관하며 HF를 포함한 화학물질은 피하십시오.
비고
맞춤 구성(홀 패턴, 코팅 또는 추가 마킹)은 요청 시 제공됩니다.
대량 주문 시 적합성 증명서(RoHS, ISO 9001) 제공
한국어 
English 
Español 
Français 
Deutsch 
Русский 
العربية 
Português do Brasil 
日本語 
繁體中文