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Fused Quartz Vacuum Chucks & Handling Plates

Tuguan
8月 12, 2025

Close-up of a clear Fused Quartz plate with complex internal fluidic channels and two circular ports, held by a gloved hand

Clear Fused Quartz rectangular frame or support component with a large central cutout and multiple perimeter holes.

Top-down view of a clear, square Fused Quartz plate with an intricate concentric circular and radial etched pattern, resembling a fan guard

Clear, rectangular Fused Quartz plate with a precise grid of small square openings and circular standoffs, held by a gloved hand.

Fused Quartz Vacuum Chucks & Handling Plates

Our precision custom Fused Quartz vacuum chucks, plates, and handling fixtures are engineered for demanding applications in semiconductor wafer processing, etching, and other high-tech industries. Crafted from high-purity Fused Quartz, these components ensure contamination-free, scratch-free handling, offering exceptional thermal stability and chemical inertness for reliable performance in vacuum and high-temperature environments

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Basic Dimensions

Outer Diameter (OD): 300.0 mm ±0.1
Inner Diameter (ID): 210.0 mm ±0.1
Height (H): 6.35 mm ±0.05

材料の特性

基材： Al₂O₃（アルミナセラミック） / オプション：ZrO₂、Si₃N₄
密度 ≥3.90 g/cm³
曲げ強度： ≥350 MPa
熱伝導率: 24-30 W/(m·K)
絶縁耐圧: ≥15 kV/mm

公差と表面品質

同心度: ≤0.05 mm（外径と内径）
並列性 ≤0.03 mm (上表面/下表面)
表面粗さ： Ra ≤0.4 μm

主要な性能テスト

寸法検査: ISO 286-2に基づく
漏れ率テスト ≤1×10⁻⁹ mbar·L/s (ヘリウム質量分析)
熱ショック耐性: ΔT ≥300°C (5サイクル、亀裂なし)

用途

半導体加工: 真空チャンバー、プラズマエッチング部品
高温環境： ≤1600°C (材料依存性)

包装と取扱い

クリーンルーム包装 クラス100以上
静電防止 ESD対策コンテナ

適合宣言
SEMI F47-0706に適合（半導体装置用セラミック部品）

免責事項
ご要望に応じてカスタマイズ可能です。「□」でマークされた重要なパラメータには、明示的な確認が必要です。

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