溶融石英の支持部材とプロセスホルダー

溶融石英の支持部材とプロセスホルダー

溶融石英は、ウェハ処理、CVD、プラズマツール、ウェットベンチ、高温炉用に設計されたサポート、フレーム、そしてホルダーを提供します。高純度の溶融石英から作られ、精密な炎融着により組み立てられたこれらの治具は、優れた熱安定性、化学的不活性、そして厳密な寸法管理を実現します。重要な環境でクリーンで安定した支持と信頼性の高い取り扱いを提供します。


見積もりに必要な情報

  • 図面(PDF/STEP)または主要寸法: 全体サイズ、レール/棒の直径、スタンドオフの高さ、インターフェースポイント
  • ペイロードとインタフェース: 保持対象の部品サイズ/重量(wafer/boat/substrate)。接触点の数と目標クリアランス
  • 使用モード: 静的サポートと転送/ロボットによる取り扱いを比較; マウンティングパターンまたはフック/フットの設計
  • 環境: 化学薬品、真空/圧力、最大温度と熱サイクルプロファイル
  • 表面と接触: 研磨済みパッド vs グラウンド仕上げ;エッジ半径と面取りで傷を防ぐ
  • 臨界公差:平坦度/直角度、平行度、荷重下的許容たわみ
  • 数量(プロトタイプまたはロット)、検査報告書が必要、梱包/清浄度レベル

主要仕様

  • 재료: 高純度溶融石英(SiO₂);材料証明書は要請に応じて提供可能
  • 形状: フレーム、ラック、クレードル、キャリア、ブラケットおよびクロスブレースド・サポート。モノリシックなアセンブリまたは炎で溶融させたアセンブリ
  • 寸法: 設計図どおり(受注生産)で、熱安定性のための一様な断面厚さ
  • 特徴: スタンドオフ/脚部、レール、タブ/フック、整列キーまたはダボ、軽量化ポケット、排水/換気穴
  • 構造: 精密加工と滑らかでチップの出ないジョイント。応力緩和アニーリングが利用可能。
  • 表面仕上げ: ファイアポリッシュ済みのエッジ; すり傷のない取扱いのための研磨済み接触パッド; すべての接触点のバリ取り済み半径
  • 清浄度: 超音波/DIクリーニング; Class-100対応のパッケージ; オプションのレーザー部品ID/向きマーク

材料特性(代表値)

  • 非常に低い熱膨張率と優れた耐熱衝撃性
  • ほとんどのプロセス媒体に対する優れた耐薬品性(注:HFは溶融石英を侵食します)
  • 電気的に絶縁され、発ガスが少ない。汚染に敏感な工具のための、光学的に清浄な表面。

加工と設計メモ

  • 壁と棒の厚さを均一に保ち、結合部に大きな面取りを追加して応力集中を最小化してください
  • 接点パッドのサイズ/仕上げとペイロードに対する許容ギャップを定義し、マイクロチップと粒子トラップを回避する
  • 剛性と低たわみが重要な箇所では、十字補強またはリブを使用してください。荷重下の目標たわみを指定してください。
  • 仮想リークを防ぐため、真空にさらされるブラインドキャビティ/穴を換気する
  • 平坦度、直角度、平行度、ランアウトの許容差を、寸法・形状・荷重に基づいて実務的にご提案できます。

検査と試験

  • 寸法検証: 全体寸法、スタンドオフ高さ、レール/ロッド間隔、穴の位置; 直角性/平行性の検査
  • 目視検査:チップ、マイクロクラック、インクルージョン、汚染の100%検査。
  • オプション: 複屈折/応力評価; 荷重/撓度試験; 清浄度レポート

用途

ウェハーボートと基板サポート、炉のホットゾーンフレーム、ウェットベンチのラックとキャリア、ロボットまたは手動搬送用の転送治具、CVD/エッチ/クリーンツール内のアライメント・スペーシング治具。

包装と保管

接点端部の保護キャップ、エッジガード、セパレータ;静電防止機能を備えた真空密封包装で、外部保護が堅牢。乾燥(<40% RH)を保ち、10–30 °CでHFを含む化学薬品を避けて保管する。

備考
カスタム構成(穴パターン、コーティング、または追加マーキング)はご要望に応じて対応します。
大量注文時に適合証明書(RoHS、ISO 9001)を添付

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