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ノズルと流体部品
半導体ツール、ALD/CVD、ウェットベンチ、化学/研究室システム向けに設計された溶融石英ノズル、スプレーヘッド、インジェクター、拡散器、流体マニホールド。高純度の溶融石英から作られ、図面に合わせて精密に加工されたこれらの部品は、化学的惰性、熱安定性に優れ、真空および高温環境でのガスと液体の正確で清浄な供給を実現します。
見積もりに必要な情報
- 図面（PDF/STEP）または主要寸法：本体サイズ、壁厚、ポートの位置
- 媒体とターゲット：ガス/液体、流量範囲、圧力/真空、スプレーコーンまたはジェット形式
- 穴の詳細: 直径、数量、間隔、位置；単孔/多孔；内部ディフューザー/スパージャーが必要な場合
- マニホールド/チャネルの詳細（該当する場合）：配置、断面形状、混合ゾーン、デッドボリュームの制限
- 接続タイプ: ネジ付きエンド、ホースバーブ、圧縮継手、KF/ISOフランジ、またはカスタムアダプター
- 濡れた領域の重要公差と表面仕上げ、清浄度レベル
- 数量（プロトタイプまたはロット）、検査報告、梱包レベル
主要仕様
- 재료: 高純度溶融石英（SiO₂）；材料証明書は要請に応じて提供可能
- タイプ: ノズル/インジェクター、スプレーヘッド、ディフューザー/スパージャー、分配マニホールド、マイクロリアクター/ミキシングブロック
- 寸法: 図面どおり（受注生産）で、均一な壁厚を実現し熱安定性を確保
- 開口部と通路 レーザーで穴を開けたものまたはエッチングしたもの; 単孔または複孔アレイ; チャネルの形状は設計に準じる.
- 接続: ねじ、バーブ、圧縮またはフランジのインターフェース；アライメント機能とレーザー部品IDは要望に応じて
- 表面仕上げ: 炎でポリッシュしたリム; 湿潤させた表面を研磨またはポリッシュして、粒子の発生を最小限に抑える
- 構造: 炎融着継手を用いた高精度加工。マニホールド設計向けのボンド付きカバー板は任意です
- 清浄度: 超音波/DI洗浄; Class-100対応梱包
- サービスノート: 真空または低圧での使用を想定しています。圧力定格は設計と試験に依存します。
材料特性（代表値）
- ほとんどの酸・アルカリ、有機溶媒に対して優れた耐性を有します（注：HFは溶融石英を侵します）
- 非常に低い熱膨張と高い熱衝撃耐性
- 電気絶縁性、低ガス放出；光学的にクリーンな表面
加工と設計メモ
- 内部の遷移で余裕のある半径を用いて応力と粒子トラップを低減する
- 通路長と断面を一貫させて、流量分布を均一にする
- 真空に曝露された貫通孔をベントして仮想リークを回避する；許容リーク率を指定する
- 下流の配管に適合する接続規格を選択してください。薄い部分での鋭いねじ山を避けてください
- 幾何学に基づいて、穴径/間隔、同心度、直線度、表面仕上げの実用公差を示すことができます。
検査と試験
- 寸法検証：本体サイズ、ポート位置、開孔径と間隔；チャネルの幾何形状（マニホールド用）。
- オプション: ヘリウム漏れ試験（真空アセンブリ）を実施します。設計に基づく圧力/保持試験と流量特性の評価を行います
- 100%の視覚検査：チップ、マイクロクラック、含有物、汚染
- 清浄証明書と材料の追跡性が利用可能
用途
プロセスガスの注入と分配、ALD/CVD前駆体の供給。スプレー式エッチング/リンス、マイクロ流体の混合と計量、蒸気・液体マニフォールドを分析機器および高純度化学品ライン向けに。
包装と保管
静電防止の真空シール包装、衝撃吸収フォームとポート/開口部の保護キャップを備えています。乾燥して保管してください（<40% RH）10–30 °C；HFを含む化学薬品を避けてください。
備考
カスタム構成（穴パターン、コーティング、または追加マーキング）はご要望に応じて対応します。
大量注文時に適合証明書（RoHS、ISO 9001）を添付
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