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溶融石英ウェハーボート

Tuguan
8月 8, 2025

Clear fused quartz wafer boat with multiple slots for semiconductor wafers.

Long, clear fused quartz rods with spiral grooves, likely components of a wafer boat.

Compact clear fused quartz boat or carrier design, angled view.

Opaque fused quartz wafer carrier frame with straight support rods.

Multiple individual clear fused quartz wafer support stands or components.

溶融石英ウェハーボート

The Quartz Cleaning Boat は高純度で腐食耐性のあるキャリアで、半導体、太陽光発電、精密電子機器産業向けに設計されています。湿式/乾式洗浄、酸性エッチング、または高温プロセス中にウェハーや部品を保持するために使用されます。

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製品概要

高純度で耐腐蝕性のある溶融石英のボートとキャリアは、半導体・太陽電池・精密電子機器産業向けに特注設計されています。ウェーハの清掃（RCA、SC1/SC2）、酸性エッチング、高温アニール/拡散、CVD/PVDプロセスに最適で、これらの部品は超クリーンで汚染のない表面と優れた熱安定性を提供し、SEMI F20/F47規格を満たします。

技術仕様

パラメータ： 詳細
材料： 溶融石英 (SiO₂ ≥99.99%)
寸法： カスタマイズ可能 (標準: 長さ 200–500 mm、幅 50–150 mm、高さ 20–50 mm)
最大温度: 1,200°C (連続使用) / 1,450°C (短期使用)
表面仕上げ： 酸洗い仕上げ、Ra ≤0.8 μm
純度： 低い金属不純物（Na、K、Fe など <1 ppm）
熱安定性: 熱膨張係数 (CTE): 0.55 ×10⁻⁶/°C (20–1,000°C)

主な特徴

高い化学耐性: HF、HCl、HNO₃などの腐食性化学薬品に耐性がある
低熱膨張： 急激な温度変化による変形を最小化
非汚染性: 超クリーンな表面は粒子の付着を防ぐ
カスタムデザイン: スロット間隔、深さ、キュベットの形状は顧客のニーズに合わせて調整します

用途

ウェーハのウェットベンチでの洗浄（RCA、SC1/SC2）
酸浴プロセス（例：BOEエッチング）
高温アニーリング/拡散ステップ
CVD/PVDチャンバー部品の取り扱い

品質保証

適合性: SEMI F20/F47 規格を満たします
テスト:
ICP-MSによる不純物分析
AFMによる表面粗さの測定
熱ショック試験 (1,000°C ⇄ 25°C, 10回)

包装と保管

個別に梱包された静電防止・ESD対応の容器
乾燥してほこりのない環境で保管してください（10–30°C）

注意事項

機械的衝撃や急激な温度変化を避ける (>10°C/min)
初回使用前に脱イオン水またはエタノールで洗浄してください

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