Barques pour wafers en quartz fondu

  • Clear fused quartz wafer boat with multiple slots for semiconductor wafers.
  • Long, clear fused quartz rods with spiral grooves, likely components of a wafer boat.
  • Compact clear fused quartz boat or carrier design, angled view.
  • Opaque fused quartz wafer carrier frame with straight support rods.
  • Multiple individual clear fused quartz wafer support stands or components.

    • Barques pour wafers en quartz fondu

    Le Quartz Cleaning Boat est un support de haute pureté et résistant à la corrosion conçu pour les industries des semi-conducteurs, photovoltaïques et de l'électronique de précision. Il est utilisé pour maintenir des wafers ou des composants lors du nettoyage humide ou sec, de l'attaque acide ou de procédés à haute température.

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    Aperçu du produit

    Nos cuves et porte-échantillons en quartz fondu de haute pureté et résistants à la corrosion sont conçus sur mesure pour les industries des semi-conducteurs, photovoltaïques et de l'électronique de précision. Idéaux pour le nettoyage de plaquettes (RCA, SC1/SC2), gravure acide, recuit/diffusion à haute température et procédés CVD/PVD, ces composants offrent des surfaces ultra-propres et non contaminantes, et une excellente stabilité thermique, conformes aux normes SEMI F20/F47.

    Spécifications techniques

    • Paramètre: Détails
    • Matériau : quartz fondu (SiO₂ ≥99.99%)
    • Dimensions : Personnalisable (Standard : Longueur 200–500 mm, Largeur 50–150 mm, Hauteur 20–50 mm)
    • Température maximale: 1,200°C (Utilisation continue) / 1,450°C (Court terme)
    • Finition de la surface: Polissage acide, Ra ≤0.8 μm
    • Pureté: Faibles impuretés métalliques (Na, K, Fe, etc. <1 ppm)
    • Stabilité thermique: Coefficient d'expansion thermique (CTE): 0.55 ×10⁻⁶/°C (20–1,000°C)

    Caractéristiques clés

    • Haute résistance chimique: Résiste au HF, au HCl, au HNO₃ et à d'autres produits chimiques agressifs
    • Faible expansion thermique: Minimise la déformation lors de variations rapides de température
    • Sans contamination: Surface ultra-propre empêche l'adhérence des particules
    • Conception personnalisée: Espacement des fentes, profondeur et géométrie de la cuvette adaptée aux besoins du client

    Applications

    • Nettoyage de plaquettes dans des bancs humides (RCA, SC1/SC2)
    • Processus de bain acide (par ex., gravure BOE)
    • Étapes de recuit et diffusion à haute température
    • Gestion des composants de la chambre CVD/PVD

    Assurance qualité

    • Conformité: Conforme aux normes SEMI F20/F47
    • Test:
      ICP-MS pour l'analyse des impuretés
      Mesure de la rugosité de surface par AFM
      Essai de choc thermique (1,000°C ⇄ 25°C, 10 cycles)

    Conditionnement et stockage

    • Conditionné individuellement dans des contenants antistatiques compatibles ESD
    • Conservez-le dans un endroit sec et dépourvu de poussière (10–30°C)

    Précautions

    • Éviter les chocs mécaniques ou les variations de température brusques (>10°C/min)
    • Nettoyez avec de l'eau déionisée ou de l'éthanol avant la première utilisation

    Demande rapide

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