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4 inch Quartz Wafers & Optical Substrates
Our high-purity Fused Quartz wafers and optical substrates are engineered for demanding applications in semiconductor manufacturing, optical systems, and MEMS devices. Offering exceptional UV transparency, low thermal expansion, and superior surface quality, these wafers ensure precise, contamination-free performance in critical processing, testing, and lithography environments.
Matériau
- Matériau de base : quartz fondu synthétique de haute pureté (SiO₂ ≥99.99%)
- Qualité optique: transparence UV avec faible teneur en OH
Dimensions
- Diamètre :100 mm ±0.05 mm
- Épaisseur: 3 mm ±0.05 mm
- Traitement des arêtes : chanfrein fini ≤0.3 mm
Propriétés physiques
- Densité: 2.2 g/cm³
- Dureté: Mohs 5.5-6.5
- Expansion thermique: 0.55 × 10⁻⁶/°C (20-300°C)
- Point de ramollissement: 1683°C
Propriétés optiques
- Gamme de transmission: 190 nm (UV) à 2500 nm (IR)
- Indice de réfraction: 1.458 @ 587.6 nm (nd)
- Scratch-Dig: 60/40 (MIL-PRF-13830B)
- Planéité de la surface: λ/4 @ 632.8 nm
Spécifications de surface
- Rugosité Ra: ≤5 Å (surfaces polies)
- Parallélisme : ≤1 arcmin
Résistance chimique
- Résistant aux acides (sauf HF), à l'eau et aux solvants organiques
Applications
- Fenêtres optiques, systèmes laser, lithographie UV
- Traitement des semi-conducteurs, fenêtres d'observation à haute température
Certifications et Conformité
- conforme à RoHS
- Rapports de métrologie personnalisés disponibles sur demande
Emballage
- Emballé individuellement dans une mousse antistatique
- Expédié dans des récipients rigides et à l'épreuve de l'écrasement
Remarques
Évitez les chocs mécaniques ou le contact direct avec des objets tranchants
Nettoyer avec IPA ou de l'acétone en utilisant des lingettes sans peluches
Pour des données techniques complètes ou des demandes personnalisées, contactez email
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