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Fused Quartz Vacuum Chucks & Handling Plates
Our precision custom Fused Quartz vacuum chucks, plates, and handling fixtures are engineered for demanding applications in semiconductor wafer processing, etching, and other high-tech industries. Crafted from high-purity Fused Quartz, these components ensure contamination-free, scratch-free handling, offering exceptional thermal stability and chemical inertness for reliable performance in vacuum and high-temperature environments
Basic Dimensions
- Outer Diameter (OD): 300.0 mm ±0.1
- Inner Diameter (ID): 210.0 mm ±0.1
- Height (H): 6.35 mm ±0.05
Propriétés des matériaux
- Matériau de base: Al₂O₃ (céramique d'alumine) / Optionnel: ZrO₂, Si₃N₄
- Densité ≥3.90 g/cm³
- Résistance à la flexion: ≥350 MPa
- Conductivité thermique: 24-30 W/(m·K)
- Résistance diélectrique: ≥15 kV/mm
Tolérance et qualité de la surface
- Concentricité: ≤0.05 mm (DE et DI)
- Parallelism: ≤0.03 mm (faces supérieure et inférieure)
- Rugosité de la surface: Ra ≤0.4 μm
Tests de performance clés
- Inspection dimensionnelle: Selon ISO 286-2
- Test du taux de fuite ≤1×10⁻⁹ mbar·L/s (Spectrométrie de masse d'hélium)
- Résistance au choc thermique: ΔT ≥300°C (5 cycles, pas de fissures)
Applications
- Traitement des semi-conducteurs: Cavités à vide, composants de gravure au plasma
- Environnements à haute température: ≤1600°C (Dépendant du matériau)
Emballage et manutention
- Emballage en salle blanche Classe 100 ou supérieure
- Antistatique Conteneurs anti-ESD
Déclaration de conformité
Conforme à SEMI F47-0706 (Composants céramiques pour équipements semi-conducteurs)
Clause de non-responsabilité
La personnalisation est disponible sur demande. Les paramètres critiques marqués par “□” nécessitent une confirmation explicite.