Fused Quartz Vacuum Chucks & Handling Plates

Fused Quartz Vacuum Chucks & Handling Plates

Our precision custom Fused Quartz vacuum chucks, plates, and handling fixtures are engineered for demanding applications in semiconductor wafer processing, etching, and other high-tech industries. Crafted from high-purity Fused Quartz, these components ensure contamination-free, scratch-free handling, offering exceptional thermal stability and chemical inertness for reliable performance in vacuum and high-temperature environments


Basic Dimensions

  • Outer Diameter (OD): 300.0 mm ±0.1
  • Inner Diameter (ID): 210.0 mm ±0.1
  • Height (H): 6.35 mm ±0.05

Propriétés des matériaux

  • Matériau de base: Al₂O₃ (céramique d'alumine) / Optionnel: ZrO₂, Si₃N₄
  • Densité ≥3.90 g/cm³
  • Résistance à la flexion: ≥350 MPa
  • Conductivité thermique: 24-30 W/(m·K)
  • Résistance diélectrique: ≥15 kV/mm

Tolérance et qualité de la surface

  • Concentricité: ≤0.05 mm (DE et DI)
  • Parallelism: ≤0.03 mm (faces supérieure et inférieure)
  • Rugosité de la surface: Ra ≤0.4 μm

Tests de performance clés

  • Inspection dimensionnelle: Selon ISO 286-2
  • Test du taux de fuite ≤1×10⁻⁹ mbar·L/s (Spectrométrie de masse d'hélium)
  • Résistance au choc thermique: ΔT ≥300°C (5 cycles, pas de fissures)

Applications

  • Traitement des semi-conducteurs: Cavités à vide, composants de gravure au plasma
  • Environnements à haute température: ≤1600°C (Dépendant du matériau)

Emballage et manutention

  • Emballage en salle blanche Classe 100 ou supérieure
  • Antistatique Conteneurs anti-ESD

Déclaration de conformité
Conforme à SEMI F47-0706 (Composants céramiques pour équipements semi-conducteurs)

Clause de non-responsabilité
La personnalisation est disponible sur demande. Les paramètres critiques marqués par “□” nécessitent une confirmation explicite.

Demande rapide

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