Fused Quartz Vacuum Chucks & Handling Plates

  • Close-up of a clear Fused Quartz plate with complex internal fluidic channels and two circular ports, held by a gloved hand
  • Clear Fused Quartz rectangular frame or support component with a large central cutout and multiple perimeter holes.
  • Top-down view of a clear, square Fused Quartz plate with an intricate concentric circular and radial etched pattern, resembling a fan guard
  • Clear, rectangular Fused Quartz plate with a precise grid of small square openings and circular standoffs, held by a gloved hand.

    • Fused Quartz Vacuum Chucks & Handling Plates

    Our precision custom Fused Quartz vacuum chucks, plates, and handling fixtures are engineered for demanding applications in semiconductor wafer processing, etching, and other high-tech industries. Crafted from high-purity Fused Quartz, these components ensure contamination-free, scratch-free handling, offering exceptional thermal stability and chemical inertness for reliable performance in vacuum and high-temperature environments

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    Basic Dimensions

    • Outer Diameter (OD): 300.0 mm ±0.1
    • Inner Diameter (ID): 210.0 mm ±0.1
    • Height (H): 6.35 mm ±0.05

    Propiedades del material

    • Material de base: Al₂O₃ (cerámica de alúmina) / Opcional: ZrO₂, Si₃N₄
    • Densidad ≥3.90 g/cm³
    • Resistencia a la flexión: ≥350 MPa
    • Conductividad térmica: 24-30 W/(m·K)
    • Resistencia dieléctrica: ≥15 kV/mm

    Tolerancia y calidad de la superficie

    • Concentricidad: ≤0.05 mm (DE frente a DI)
    • Paralelismo ≤0.03 mm (superficies superiores e inferiores)
    • Rugosidad de la superficie: Ra ≤0.4 μm

    Pruebas de rendimiento clave

    • Inspección dimensional: Según ISO 286-2
    • Prueba de tasa de fuga ≤1×10⁻⁹ mbar·L/s (Espectrometría de masas de helio)
    • Resistencia al choque térmico: ΔT ≥300°C (5 ciclos, sin grietas)

    Aplicaciones

    • Procesamiento de semiconductores: Cámaras de vacío, componentes de grabado por plasma
    • Entornos de alta temperatura: ≤1600°C (dependiente del material)

    Embalaje y manipulación

    • Embalaje para sala limpia Clase 100 o superior
    • Antiestático Contenedores a prueba de ESD

    Declaración de conformidad
    Cumple con SEMI F47-0706 (Componentes cerámicos para equipos semiconductores)

    Descargo de responsabilidad
    La personalización está disponible a solicitud. Los parámetros críticos marcados con “□” requieren confirmación explícita.

    Consulta rápida

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