Anillos de enfoque y plasma para grabado y CVD en cuarzo fundido

  • Clear Fused Quartz focusing ring with a flat base and a hexagonal inner ring

Anillos de enfoque y plasma para grabado y CVD en cuarzo fundido

Anillos de enfoque de cuarzo fundido personalizados (también llamados anillos de borde, anillos de confinamiento, anillos de plasma o anillos sombra) diseñados para grabado con plasma, CVD (deposición química en fase vapor) y otros procesos de vacío. Hechos de sílice fundida de alta pureza y mecanizados con precisión según sus planos, estos anillos ofrecen una excelente resistencia al plasma, estabilidad térmica y un control dimensional estricto, ayudando a mantener la uniformidad del proceso y a minimizar la contaminación dentro de cámaras críticas.

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Datos necesarios para una cotización

  • Dibujo (PDF/STEP) o dimensiones clave: diámetro exterior, diámetro interior, espesor, alturas y anchuras de escalones.
  • Tamaño y orientación de la oblea (p. ej., 200/300 mm; posición de la muesca), brecha objetivo entre el anillo y la oblea.
  • Características: escalones/bordes, cavidades, geometría de sujeción o sombra, ventilaciones, agujeros para tornillos, avellanados, muescas de alineación
  • Detalles de borde y acabado de la superficie (chaflán/bisel; superficies lijadas o pulidas)
  • Condiciones de operación: química de plasma, potencia, temperatura, vida útil prevista/tolerancia a la erosión
  • Tolerancias críticas: planitud, paralelismo, concentricidad, desviación circular
  • Cantidad (prototipo o lote), informes de inspección requeridos, nivel de embalaje

Especificaciones clave

  • Material: cuarzo fundido de alta pureza (SiO₂); certificado del material disponible a petición
  • Geometría: Anillos planos, anillos escalonados y con rebordes, segmentos de varias piezas y anillos de confinamiento/sombra — completamente personalizados según el dibujo.
  • Dimensiones: Conforme al dibujo (hecho a medida); espesor uniforme de la sección para la estabilidad térmica
  • Características funcionales labios de sombra, superficies de sujeción, pasos de colocación de la oblea, orificios de flujo y ventilación para la igualación de la presión
  • Borde y superficie Bordes pulidos por llama; superficies funcionales lijadas o pulidas; radios suaves para reducir la generación de partículas
  • Alineación y montaje: muescas/llaves, agujeros avellanados, referencias de datum, ID de la pieza láser/dirección del flujo a petición
  • Limpieza: Limpieza ultrasónica/DI; embalaje compatible con Class-100

Propiedades del material (típicas)

  • Baja expansión térmica y alta resistencia al choque térmico
  • Excelente inercia química ante la mayoría de los gases de proceso; tenga en cuenta que el HF ataca al cuarzo fundido
  • Aislamiento eléctrico, con baja desgasificación; superficies ópticamente limpias

Notas de procesamiento y diseño

  • Mantenga constante la separación entre el anillo y la oblea y las alturas de escalón para garantizar una distribución uniforme del plasma.
  • Añade radios internos generosos en las transiciones para reducir la tensión y las trampas de partículas
  • Agujeros pasantes con ventilación y contrabarrena expuestos al vacío para evitar fugas virtuales
  • Seleccionar el acabado de la superficie según la limpieza del proceso y los requisitos de sujeción/sombra
  • Podemos asesorar tolerancias viables para la planitud, el paralelismo, la concentricidad y la carrera radial basadas en el tamaño y la geometría

Inspección y ensayos

  • Verificación dimensional (CMM/óptico): OD/ID/espesor, alturas y anchos de escalones, características de huecos
  • Comprobaciones de planitud/paralelismo y runout frente a superficies de referencia
  • Inspección visual: verificación al 100% de astillas, microfisuras, inclusiones y contaminación.
  • Opcional: evaluación de birefringencia/estado de tensiones; verificación del acabado de la superficie; informe de limpieza

Aplicaciones

Grabado por plasma ICP/RIE/DRIE, PECVD/CVD, como anillos de borde, de enfoque y de sombra. Componentes de confinamiento para plataformas de obleas de 150–300 mm y sustratos personalizados.

Embalaje y almacenamiento

Empaquetado antiestático, al vacío, con protección rígida; separadores de anillo para evitar el contacto con los bordes. Conservar en seco (<40% RH) a 10–30 °C; mantener alejado de productos químicos que contengan HF.

Notas
Configuraciones personalizadas (patrones de perforación, recubrimientos o marcas adicionales) disponibles bajo pedido.
Certificados de conformidad (RoHS, ISO 9001) incluidos en pedidos al por mayor

Consulta rápida

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