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4 inch Quartz Wafers & Optical Substrates
Our high-purity Fused Quartz wafers and optical substrates are engineered for demanding applications in semiconductor manufacturing, optical systems, and MEMS devices. Offering exceptional UV transparency, low thermal expansion, and superior surface quality, these wafers ensure precise, contamination-free performance in critical processing, testing, and lithography environments.
Material
- Material base: cuarzo fundido sintético de alta pureza (SiO₂ ≥99.99%)
- Grado óptico: transparencia UV con bajo contenido de hidroxilo (OH)
Dimensiones
- Diámetro :100 mm ±0.05 mm
- Espesor: 3 mm ±0.05 mm
- Tratamiento de aristas: chaflán lijado fino ≤0.3 mm
Propiedades físicas
- Densidad: 2.2 g/cm³
- Dureza: Mohs 5.5-6.5
- Expansión térmica: 0.55 × 10⁻⁶/°C (20-300°C)
- Punto de ablandamiento: 1683°C
Propiedades ópticas
- Rango de transmisión: 190 nm (UV) a 2500 nm (IR)
- Índice de refracción: 1.458 @ 587.6 nm (nd)
- Scratch-Dig: 60/40 (MIL-PRF-13830B)
- Planitud de la superficie: λ/4 @ 632.8 nm
Especificaciones de la superficie
- Rugosidad Ra: ≤5 Å (superficies pulidas)
- Paralelismo : ≤1 arcmin
Resistencia química
- Resistente a los ácidos (excepto HF), al agua y a disolventes orgánicos
Aplicaciones
- Ventanas ópticas, sistemas láser, litografía UV
- Procesamiento de semiconductores, puertos de observación a alta temperatura
Certificaciones y Cumplimiento
- cumple con RoHS
- Informes de metrología personalizados disponibles a petición
Empaque
- Empacado individualmente en espuma antiestática
- Enviado en recipientes rígidos a prueba de aplastamiento
Notas
Evite golpes mecánicos o contacto directo con objetos afilados
Limpiar con IPA o acetona usando toallitas sin pelusa
Para datos técnicos completos o solicitudes personalizadas, contacte email