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Saphirplatten und fortschrittliche Komponenten
Unsere präzisen, maßgeschneiderten Saphirplatten und fortschrittliche Bauteile, gefertigt aus hochreinem Monokristall-Aluminiumoxid, sind für die anspruchsvollsten industriellen Anwendungen konzipiert. Mit extremer Härte, hohem Festigkeitsgrad, breiter optischer Transmission (UV/Vis bis IR) und hervorragender Beständigkeit gegenüber hohen Temperaturen und korrosiven Chemikalien eignen sich diese maßgeschneiderten Saphirbauteile ideal für Halbleiter, Hochdruck-, Abrieb- und andere raue Umgebungen, in denen konventionelle Materialien scheitern.
Produktbeschreibung
- Material: Synthetischer Saphir
- Form: kreisförmiger Wafer
Wesentliche Spezifikationen
- Durchmesser: 50.0 ±0.1 mm
- Dicke: 3.0 ±0.05 mm
- Oberflächenfinish: Double-side polished (Ra ≤ 5 nm)
- Crystallographic Orientation: C-plane (0001) [Customizable]
- Edge Treatment: Chamfered (0.2 mm max)
Physische Eigenschaften
- Dichte 3.98 g/cm³
- Hardness: 9.0 Mohs
- Transmittance Range: 0.15–5.5 μm
- Wärmeleitfähigkeit: 35 W/(m·K) @ 25°C
Qualitätsstandards
- Planität: ≤ 1 μm/cm
- Parallelismus ≤ 1 arcmin
- Laser Marking: Optional (Lot ID/Custom text)
Anwendungen
- Optical, Semiconductor, LED Substrates, etc.
Verpackung
- Reinigung: Ultrasonic-cleaned, Class 100 cleanroom
- Lagerung: Vacuum-sealed, anti-static container
Hinweise
Custom specifications (e.g., orientation, coatings, metrology reports) available upon request.
Compliance with RoHS & REACH standards.