Geschmolzener Quarz Düsen & Fluideinjektoren für Halbleiter

Geschmolzener Quarz Düsen & Fluideinjektoren für Halbleiter

Unsere präzisionsgefertigten Düsen aus geschmolzenem Quarz (Quarzglas) und Flüssigkeitsinjektoren sind für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleitertechnik, ALD/CVD und der chemischen Verarbeitung konzipiert. Diese hochreinen Bauteile bieten außergewöhnliche chemische Inertheit, thermische Stabilität und eine präzise Flüssigkeitszufuhr, wodurch eine optimale Leistung in kritischen Umgebungen sichergestellt wird.


Angaben für ein Angebot

  • Zeichnung (PDF/STEP) oder Schlüsseldimensionen (OD / ID / Länge)
  • Öffnungsdetails: Durchmesser, Anzahl, Abstand, Position; Spitzenform; ggf. seitliche Öffnungen
  • Betriebsumgebung: Vakuum / Plasma / Chemikalien; maximale Temperatur; gewünschtes Fließverhalten.
  • Kritische Toleranzen und Anforderungen an die Oberflächenrauheit

Wesentliche Spezifikationen

  • Material: Hochreines geschmolzenes Quarzglas (Quarz, SiO₂); Materialzertifikat auf Anfrage erhältlich
  • Geometrie: Gerade / gestuft / konisch / L-förmig; vollständig individuell gemäß Zeichnung
  • Abmessungen: Nach Zeichnung (auf Maß); gleichmäßige Wandstärke gemäß dem Design
  • Tipps & Öffnungen: Eine einzelne oder mehrere Öffnungen, mit Laser gebohrt oder geätzt; Größe und Abstand gemäß Zeichnung
  • Eigenschaften: Seitliche Perforationsanordnungen, seitliche Ports, Flansche/Gewinde/Kragen, Endkappen oder halbkugelförmige Enden (optional).
  • Oberflächenfinish: Feuerpoliert / geschliffen / poliert (OD/ID) nach Bedarf; entgratete Kanten
  • Geradheit und Konzentrizität: Nach Zeichnung; Geometrieabhängig (wir können machbare Toleranzen empfehlen)
  • Sauberkeit: Ultraschallreinigung; Verpackung kompatibel mit Klasse 100; Spitzenprotektoren
  • Kennzeichnung: Laser-Teil-ID oder Flussrichtung auf Anfrage

Materialeigenschaften (typisch)

  • Hohe optische Transmissivität und sehr geringe thermische Ausdehnung
  • Hervorragende chemische Inertheit gegenüber Säuren, Basen und organischen Lösungsmitteln (außer HF)
  • Beständig gegen hohe Temperaturen und thermische Zyklen
  • Elektrische Isolation und geringe Ausgasung für saubere Prozesse

Anwendungen

Bereitstellung von ALD/CVD-Precursoren und Plasmatechnik. Mikroreaktoren und analytische Instrumentierung, präzise Dosierung chemischer Substanzen im Vakuum oder in Umgebungen mit hohen Temperaturen.

Verarbeitungs- und Designhinweise

  • Durch Laserbohrung/Ätzen erzeugte Öffnungen; Kanten ohne Grate und Splitter
  • Spannungsentlastungs-Glühen und Säurereinigung erhältlich
  • Abrundungen an scharfen Übergängen werden empfohlen, um die Spannungskonzentration zu reduzieren
  • Konzentrizität/Geradeausrichtung gemäß Zeichnung; praktische Toleranztipps verfügbar

Inspektion und Prüfung

  • Abmessungsprüfung: Außen-Durchmesser/Innen-Durchmesser/Länge; Lochgröße und Lochabstände
  • Optionale Tests: Helium-Lecktest (für Vakuumbaugruppen), Durchflussratenprüfung und Prüfung der Birefringenz und der Spannung.
  • 100% visuelle Inspektion von Splittern, Rissen und Kontamination

Verpackung und Lagerung

  • Antistatische, vakuumversiegelte Verpackung mit stoßdämpfendem Schaumstoff und Spitzenschutz. Lagerung in einer trockenen Umgebung (<40% RH) bei 10–30 °C.

Hinweise
Maßgeschneiderte Konfigurationen (Bohrmuster, Beschichtungen oder zusätzliche Kennzeichnungen) auf Anfrage verfügbar.
Konformitätszertifikate (RoHS, ISO 9001) bei Großbestellungen

Schnelle Anfrage

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