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Fused Quartz Vacuum Chucks & Handling Plates
Our precision custom Fused Quartz vacuum chucks, plates, and handling fixtures are engineered for demanding applications in semiconductor wafer processing, etching, and other high-tech industries. Crafted from high-purity Fused Quartz, these components ensure contamination-free, scratch-free handling, offering exceptional thermal stability and chemical inertness for reliable performance in vacuum and high-temperature environments
Basic Dimensions
- Outer Diameter (OD): 300.0 mm ±0.1
- Inner Diameter (ID): 210.0 mm ±0.1
- Height (H): 6.35 mm ±0.05
Materialeigenschaften
- Basismaterial: Al₂O₃ (Aluminiumoxid-Keramik) / Optional: ZrO₂, Si₃N₄
- Dichte ≥3.90 g/cm³
- Biegefestigkeit: ≥350 MPa
- Wärmeleitfähigkeit: 24-30 W/(m·K)
- Dielektrische Festigkeit: ≥15 kV/mm
Toleranz und Oberflächenqualität
- Konzentrizität: ≤0.05 mm (Außendurchmesser gegenüber Innendurchmesser)
- Parallelismus ≤0.03 mm (Ober- und Unterflächen)
- Oberflächenrauheit: Ra ≤0.4 μm
Kern-Leistungstests
- Dimensionsprüfung: Gemäß ISO 286-2
- Leckagerate-Test ≤1×10⁻⁹ mbar·L/s (Helium-Massenspektrometrie)
- Thermischer Stoßfestigkeit: ΔT ≥300°C (5 Zyklen, keine Risse)
Anwendungen
- Halbleiterverarbeitung: Vakuumkammern, Plasmaätzkomponenten
- Umgebungen mit hohen Temperaturen: ≤1600°C (Materialabhängig)
Verpackung und Handhabung
- Reinraumverpackung Klasse 100 oder besser
- Antistatisch ESD-sichere Behälter
Konformitätserklärung
Entspricht SEMI F47-0706 (Keramikbauteile für Halbleiteranlagen)
Haftungsausschluss
Die Individualisierung ist auf Anfrage verfügbar. Kritische Parameter, die mit “□” gekennzeichnet sind, erfordern eine ausdrückliche Bestätigung.