Saphirplatten und fortschrittliche Komponenten

Saphirplatten und fortschrittliche Komponenten

Unsere präzisen, maßgeschneiderten Saphirplatten und fortschrittliche Bauteile, gefertigt aus hochreinem Monokristall-Aluminiumoxid, sind für die anspruchsvollsten industriellen Anwendungen konzipiert. Mit extremer Härte, hohem Festigkeitsgrad, breiter optischer Transmission (UV/Vis bis IR) und hervorragender Beständigkeit gegenüber hohen Temperaturen und korrosiven Chemikalien eignen sich diese maßgeschneiderten Saphirbauteile ideal für Halbleiter, Hochdruck-, Abrieb- und andere raue Umgebungen, in denen konventionelle Materialien scheitern.


Produktbeschreibung

  • Material: Synthetischer Saphir 
  • Form: kreisförmiger Wafer

Wesentliche Spezifikationen

  • Durchmesser:  50.0 ±0.1 mm
  • Dicke:  3.0 ±0.05 mm
  • Oberflächenfinish:  Double-side polished (Ra ≤ 5 nm)
  • Crystallographic Orientation:  C-plane (0001) [Customizable]
  • Edge Treatment: Chamfered (0.2 mm max)

Physische Eigenschaften

  • Dichte 3.98 g/cm³
  • Hardness: 9.0 Mohs
  • Transmittance Range: 0.15–5.5 μm
  • Wärmeleitfähigkeit: 35 W/(m·K) @ 25°C

Qualitätsstandards

  • Planität: ≤ 1 μm/cm
  • Parallelismus ≤ 1 arcmin
  • Laser Marking: Optional (Lot ID/Custom text)

Anwendungen

  • Optical, Semiconductor, LED Substrates, etc.

Verpackung

  • Reinigung: Ultrasonic-cleaned, Class 100 cleanroom
  • Lagerung: Vacuum-sealed, anti-static container

Hinweise
Custom specifications (e.g., orientation, coatings, metrology reports) available upon request.
Compliance with RoHS & REACH standards.

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