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4 inch Quartz Wafers & Optical Substrates
Our high-purity Fused Quartz wafers and optical substrates are engineered for demanding applications in semiconductor manufacturing, optical systems, and MEMS devices. Offering exceptional UV transparency, low thermal expansion, and superior surface quality, these wafers ensure precise, contamination-free performance in critical processing, testing, and lithography environments.
Material
- Basismaterial: synthetischer hochreiner geschmolzener Quarz
- Optische Güte: UV-Transparenz mit niedrigem OH-Gehalt
Abmessungen
- Durchmesser :100 mm ±0.05 mm
- Dicke: 3 mm ±0.05 mm
- Kantenbearbeitung: Fein geschliffene Fase ≤0.3 mm
Physische Eigenschaften
- Dichte: 2.2 g/cm³
- Härte: Mohs 5.5-6.5
- Wärmeausdehnung: 0.55 × 10⁻⁶/°C (20-300°C)
- Erweichungspunkt: 1683°C
Optische Eigenschaften
- Übertragungsbereich: 190 nm (UV) bis 2500 nm (IR)
- Brechungsindex: 1.458 @ 587.6 nm (nd)
- Scratch-Dig: 60/40 (MIL-PRF-13830B)
- Oberflächenebenheit: λ/4 @ 632.8 nm
Oberflächenspezifikationen
- Rauheit Ra: ≤5 Å (polierte Oberflächen)
- Parallelismus : ≤1 arcmin
Chemische Beständigkeit
- Beständig gegen Säuren (außer HF), Wasser und organische Lösungsmittel
Anwendungen
- Optische Fenster, Lasersysteme, UV-Lithographie
- Halbleiterbearbeitung, Hochtemperatur-Sichtfenster
Zertifizierungen und Konformität
- RoHS-konform
- Individuelle Metrologieberichte auf Anfrage erhältlich
Verpackung
- Individuell verpackt in antistatischem Schaumstoff
- In starren, bruchfesten Behältern verschickt
Hinweise
Vermeiden Sie mechanische Stöße oder den direkten Kontakt mit scharfen Gegenständen
Mit IPA oder Aceton reinigen und fusselfreie Tücher verwenden
Für vollständige technische Daten oder individuelle Anfragen kontaktieren Sie email